Durch Reaktion von Cl2PCH2CH2PCl2 mit Bu1MgCl wird ButClPCH2CH2PClBut erhalten, das entweder zu ButH(O)PCH2CH2P(O)HBut hydrolysiert oder zu ButHPCH2CH2PHBut reduziert wird. Dieses PHosphin ergibt mit Schwefel bzw. Selen ButH(E)PCH2CH2P(E) HBut (E = S, Se).
Ph2PCH2CH2Cl und LiPHBut setzen sich zu Ph2PCH2CH2PHBt um, das zu Ph2(E)PCH2CH2P(E)HBt (E = O, S, Se) oxidiert wird, wobei primär die PH2P‐Gruppe reagiert. Die dargestellten Verbindungen werden mit Hilfe ihrer IR‐, 1H‐ und 31P‐Spektren charakterisiert.
Zum Vergleich mit bereits früher untersuchten Verbindungen Me3SiX (I) und Me5Si2X (II) mit X OR, NHR und SR wurden Disilane des Typs XMe2SiSiMe2X (III) hergestellt. Für alle drei Substanztypen wurden relative Basizitätswerte und NMR‐Daten gemessen sowie für ausgewählte Verbindungen mit X OR thermodynamische Daten der Assoziation mit Phenol. Die Ergebnisse werden bezüglich der Abhängigkeit von elektronischen und sterischen Effekten diskutiert. Für die Verbindungen mit X OR und NHR ist der induktive Effekt von X wesentlich stärker durch konjugative Wechselwirkungen kompensiert als für die Verbindungen mit X SR.
Die Lage SiOY‐charakteristischer IR‐Banden sowie die relative Basizität bzw. Acidität von Me3SiOY und Me5Si2OY wurden mit entsprechenden Daten von Verbindungen des allgemeinen Typs XMe2SiOX verglichen (X = Halogenmethyl, Benzyl, α‐Halogenbenzyl; Y = H, Alkyl, Phenyl, SiMe2X).Die Meßdaten zeigen gute lineare Beziehungen zu den Taftschen σ*‐Konstanten, mit Ausnahme der Werte für die Disilanyl‐Verbindungen (X = Me3Si). Diese Abweichungen werden durch einen spezifischen Acceptorcharakter der SiSi‐Bindung erklärt.
Die Lage Si‐O‐Y‐charakteristischer IR‐Banden sowie die relative Basizität bzw. Acidität von Me3SiOY und MesSizOY werden mit entsprechenden Daten von Verbindungen des allgemeinen Typs XMe2SiOX verglichen (X = Halogenmethyl, Benzyl, α‐Halogenbenzyl; Y = H, Alkyl, Phenyl, SiMe2X).
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