die Oberflachenmodifizierung als auch die Vernickelung uber Nickeltetracarbonyl im Plasma fuhrten jeweils zu ausgezeichneten Haftfestigkeitswerten zwischen Polymer und Kupferdeckschichten. Oberflachenaufrauhung, chemische und strukturelle Anderungen des Polymergefuges an der Oberflache und die Schaffung atzgasspezifischer funktioneller Oberflachengruppen werden als Ursache der Verbessernng der Hafteigenschaften angesehen. Ilccaeaoeanm R naaamennofiy mpaeaenum noauaepos. rIacmb I I I . ilioau@uuyupoeanue e naame noeepxnocmu noauaepoe c yeaam yayrtuenua ux aazeauu
Polymere werden im Plasma einer elektrischen Entladung an der Oberflache funktionalisiert (oxydiert) bzw. abgebaut. Daneben wurde jeweils ein signifikanter, auf eine 5 bis 10 pm starke Schicht an der Oberflache beschrankter Volumeneffekt (,,Tiefeneffekt") beobachtet, der durch die Plasma-UV-Strahlung verursacht wird. Diese photolytischen Erscheinungen fuhren zu Anderungen im Polymergefuge wie Vernetzung, Veranderung der Kristallinitat, Radikalbildung usw. Abbildungen von Polymeratzstrukturen spiegeln deshalb in gewissem Umfang die solchermafien veranderte Sekundarstruktur wider. Mccnedooawx no mpaonenu?o nonuwepoo o naaswe. Yacma I : Haael-cexux cmpyKmypaa nonu,wepoo nocne ux mpaonemx o nnmwe Investigations o n plasma etching of polymers. Part I . Structural changes of polymers by plasma etching I n t h e plasma of electrical discharges polymer samples are subjected t o oxidation causing reactive sites or t o degradation.Further, a significant volume (depth) effect in a 5 t o 10 pm surface layer was observed which was caused by plasma UV radiation. These photolytical effects result in changes of the polymer structure, as crosslinking, change of crystallinity, radical formation etc. Therefore, the etching patterns reflect the features of secondary structures formed by these processes.
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