The selective biological elimination of hazardous substances from wastewater is of vital importance for production‐integrated pollution control. It provides an opportunity to degrade otherwise persistent substances from wastewater mixtures. State‐of‐the‐art industrial wastewater treatment plants cannot perform this task although the potential for an enzymatic degradation of most of these substances exists. This is due to the hydrodynamically determined mixing characteristics of the treatment plants. The aim of developing new technologies should be the adjustment of substrate‐specific residence times at immobilized biomass.
schwemmfiltration, Flockulation und Bandfiltration, Spaltenfiltration, Hydrozyklon sowie Anthrazit-/Sandfiltration. Aus einem Vergleich der erzielbaren Wasserqualität, der Standzeit der nachfolgenden Barrierefilter, der Investitions-und Betriebskosten ergibt sich eindeutig die Bevorzugung einer Kombination aus Anthrazit-/Sandfilter sowie Grob-und Feinfilter in Form von Tiefenfiltern. Diese Alternative wurde in einer Anlage im Demonstrationsmaûstab realisiert und über 8 Monate in einer Brauerei betrieben. Untersuchungen im Technikummaûstab zur Screening von Nanofiltrations-und Umkehrosmosemembranen zeigten die grundsätzliche Eignung von Umkehrosmosemembranen (RO und LPRO) zur Erzeugung von Wasser mit Trinkwasserqualität aus Nachspülwässern von Flaschenwaschmaschinen. Die Wirtschaftlichkeit eines solchen Verfahrens hängt aber nicht zuletzt von der Auswahl eines geeigneten Vorbehandlungsverfahrens ab. Mit Hilfe einer Demonstrationsanlage aus Vorbehandlung (Sand/Anthrazitfilter) und Beutelfilter (Grob-und Feintiefenfilter), Umkehrosmose und UV-Desinfektion, die in einer mittelständischen Brauerei betrieben wurde, lassen sich Verunreinigungen aus Nachspülwasser einer Flaschenwaschmaschine so weit entfernen, dass dauerhaft Trinkwasserqualität zu erreichen ist und dieses Wasser im Betrieb wiederverwendet werden kann. Eingegangen am 22. November 2001 [K 2970]Literatur [1] R Ö G E N E R , F. ; M A V R O V, V. ; C H M I E L , H .Modellierung der Konzentrationen in den Reinigungszonen von Flaschenwaschmaschinen bei
The Reactive Gas / Wet Cleaning uses reactive gases together with deionized water instead of wet chemistry to produce the corresponding cleaning chemicals for RCA cleaning processes directly on the surface of silicon wafers in the cleaning tool. The fast and strong reactions of the hydrophilic reactants with water and the diffusion through the thin liquid layer covering the wafer surfaces on top and bottom of the wafer lead to process times of 10 seconds, comparable to the wetting of wafer surfaces with diluted liquid chemicals in standard cleaning processes. To reveal the potential of this cleaning approach intentionally with cations contaminated wafers were subjected to the cleaning with NH3(gas)/O3(gas)/H2O (SC1) and HCl(gas)/O3(gas)/H2O (SC2). Vapor phase decomposition atomic absorption spectroscopy showed that the surface contami¬nation of all used elements on the wafer surfaces could be reduced below the detection limits of about 1E+10to 1E+9 cm-2.
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