Zur Kenntnis des Verhaltens von Nichtmetallchalkogeniden gegenüber flüssigem Ammoniak, VIII. Über Reaktionen der Sulfide des Siliciums, Germaniums und Zinns im Ammonosystem

Abstract

Zur Kenntnis des Verhaltens von Nichtmetakhalkogeniden gegenuber flussigem Ammoniak, VIII 1) h r Reaktionen der Snlfide des Siliciums, Germaniums und Zinns im Ammonosystem2) Bei der Umsetzung von SiS2 mit flilssigem Ammoniak bei -33" lassen sich unter verschicdenen Bedingungen die Verbindungen SiNH(SN€€&, SiS(NHd2 und SiSNH nachweisen. -Wtlhrcnd GeS mit flilss. Ammoniak nicht rcagiert, last sich GeS2 unter Bildung von NH4[GeS2NH2J. Mit (NfikS bildet GeS2 im Ammonosystem @J&)2[GeSd, das, wie auch N&[GeS2NHd, g e d I S 0 1000 1 W 4 (nHdz[W31 -2 (NH4)21G&l -(NH4)ztGersSl -4 -s~ unter Abgabe von NH3 und H2S in GeS2 Ubergeht. Mit KNH2 bildet cine Usung von GeSz in flUss. Ammoniak in einer neutralisationsanalogen Rcaktion schwerlbslichss Kz[GeSzNH]. Das in floss. Ammoniak unlasliche SnS2 setzt sich mit (NH&S zu (NH4)4[SnS4] und (NH4)2[SnSJ] um, die beideoberhalb von 100" SnS2 fllruckbdden. -GeS und SnS wcrden durch (NH4)2S in flUss. Ammoniak unter H2-Entwicklung oxydimt: -330 1100 GaS + 2tNH4)zS -(NI&h[GeS31 + 2NH3 + Hz SnS 3-2 RJH4)2S -WRd2tSnS~l + 2NH3 + Hz In friiherm Arbeitenwurde das Verhalten der Phosphorsulfide P4S33), P&), P4S75), P4S10 51, des Tetraphosphor-tetrathiohexoxids P4S4O&, der Phosphorselenide P4Se3 und P&$) sowio des A r s e n 0 4 u l f i d s 7 ) und -seMds8) gegentiber flii%igem Ammoniak untersucht und die Reaktionsvorghge aufgeW. Im folgenden werden die Versuck auf die Sulfide des Siliciums, Gemlaniums und Zinns ausgedelmt und dariiber hinaus auch Uktzungcn mit (NH&S und KNH2 im Ammonosystem ba schriebm. 1) VII. Mitteil.: H. BBH~BNS und G. HAX%KA, chtm. Ber. 94,1191 [196l]. 2) !her TeikrgebniSse diessr Arbeit wurde anl2iBLich dcr Hauptvereammlung der Gwellschah Doutecher Chomiker in Stuttgart, April 1960, vorgctragm: H. BEHRENS und Mitarbb., Angm. ~C U L n, 583 ti9601. . 3 ) H. BBHRENS und L. H~R , Chem. Ber. 93,921 119601. ' 4) H. B-NS und L. HUBBR, Chem. Ber. 92,2252 [1959]. 0 5) H. BBHRHNS und K. KINZEL, Z. anorg. allg. Chem. W , 241 119591. 6) W. BBHRBNS und L. HUB^, Chem. Ber. 93, 1137 119601. .7) H. BBWRHNS und L. GLMSER, Z anorg. all& Chem. 278, 174 [1955]. ' 8) H. BEHRENS und L. Gusssn, Z. anorg. allg. Cbom. 282, 12 119551.BEHRENS und OsreRMere~ Jahrg. 95 A. UMSBTZUNGEN VON SILICIUMDISULFID MIT FLUSJIGEM AMMONIAK W W d Schwefelkohrens~o~(~2) mit flussigem Ammdak nach W. H. HILL und D. J. SALLEY~) zwischen -33 und -22" quantitativ in Ammoniumdithio-carbamat unter Losung einer der C=S-Doppelbindungen ubergefiihrt wird, SNH4 cs2 -k 2NH3 -S -d , h H 2 unterliegt Sificiumdisu&d nach Untersuchungen von M. B m und W. WIRBELAU~R~~) oberhalb Raumtemperatur der Ammonolyse zu Siliciumdiimid, Sip&. Dies Verbindung erhielten auch E. VIGOUROUX und H U O O T~~) bei der Reaktion von Sic&, das bei -33" Siliciumtetramid, Si(NH&, bildet, welches dam oberhalb von 0" unter NH3-Abgabe ebenfalls in Si(NH)2 ubergeht.

The first thiosilicate from solution: synthesis and crystal structure of (NH4)2[SiS3(NH3)]·2NH3

“…b = 6.5730 (13), c = 13.055(3) A ˚, a = 97.32 (3), b = 91.37(3), g = 94.13(3) • , V = 538.55(19) A ˚3, Z = 2, m(MoKa) = 0.75 mm -1 , no. of reflections measured 7378, no.…”

Organosilicon Derivatives of Sulfur

“…It is formed by high temperature reactions 'of silicon with sulfur [189,326,332,378,470,571,582,595,596,644,693]; silicon with hydrogen sulfide [595,596,597,685]; silicates and Si0 2 with CS 2 [326,327,[334][335][336][337]450, 685], sulfur [708], and a mixture of S2Cl2 with chlorine [191]; Si0 2 with hydrogen sulfide in the presence of charcoal [685]; lithium, calcium, copper, magnesium, and iron sUicides with sulfur [188,244,489,506,507]; SiO with S02 [736]; and sulfides of iron [141,293,576,738] and aluminum [192,193,420,421,423,636,642,[685][686][687]737] with silicon dioxide; the latter reaction is usually used for the preparation of considerable amounts of silicon disulfide. It is also formed by the thermal decomposition of (SiSCI~n [545] and tetra-(ethylthio)silane [182,606,610]. It was not possible to obtain ...…”

“…Silicon disulfide reacts with a series of inorganic compounds: ammonia [182,202], carbon dioxide [256,257], water [326,332, ·Silicon monosulfide SiS has also been synthesized and its properties studied n, 38, 173-177,211,238,247,248,274,313,521, 636], and metal sulfides [240,501,702]. However, the reactions of SiS 2 with organic compounds containing active hydrogen are most important for organosilicon chemistry.…”