Über die Chemisorption von Wasserstoff an dünnen aufgedampften Platinfilmen

Suhrmann, R.; Wedler, G.; Gentsch, H.

doi:10.1524/zpch.1958.17.5_6.350

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“…Suhrmann, Wedler and Gentsch (1958) only observed the conductance of platinum films to increase on treatment with hydrogen. At 295° and 195 °K the effect of the conditions at the surface is completely obscured by the rapid penetration of hydrogen into the bulk and the corresponding increase in the conductance.…”

Section: Fig 65 Decrease In Conductance (λ) Of An Evaporated Nickelmentioning

confidence: 98%

The Influence of Adsorption on Electrical and Magnetic Properties of Thin Metal Films

Geus

1971

Chemisorption and Reactions on Metallic Films

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Section: Fig 65 Decrease In Conductance (λ) Of An Evaporated Nickelmentioning

confidence: 98%

The Influence of Adsorption on Electrical and Magnetic Properties of Thin Metal Films

Geus

1971

Chemisorption and Reactions on Metallic Films

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Über die Elektronenbeanspruchung bei der Chemisorption des Benzols an Nickel bei tiefen Temperaturen

Suhrmann

Wedler

Krüger

1959

Zeitschrift für Elektrochemie, Berichte der Bunsengesellschaft

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In Fortführung früherer Untersuchungen werden die Änderungen des elektrisches Widerstandes R and der lichtelektrischen Empfindlichkeit I ermittelt, die an aufgedampften Ni‐Filmen durch die Chemisorption von Benzoldampf niedrigen Druckes (10−4 bis 10−1 Torr) bei 90 °K hervorgerufen werden. Sowohl R als auch I nehmen zu, entsprechend einer kovalenten Bindung der Benzolmolekeln am Ni‐Film. Aus der Abhängigkeit der Werte ΔR von der gemessenen adsorbierten Menge wird die monomolekulare Bedeckung zu 55 · 1013 Molekeln pro cm2 Makrooberfläche berechnet. Der Rauhigkeitsfaktor der Filmoberfläche berechnet sich zu 2,2. Die adsorbierte Menge n, die Widerstandsänderung ΔR/R und die Zahl der Ni‐Atome des Films ergeben eine Beanspruchung von 6,3 Leitungselektronen pro Benzolmolekel. Der zeitliche Übergang von der physikalischen Adsorption zur Chemisorption läßt sich durch Reaktionen 2. und 1. Ordnung wiedergeben.

show abstract

Die elektronische Wechselwirkung als Vorstufe chemischer Reaktionen zwischen Metallen und chemisorbierten Gasen

Suhrmann

Wedler

1959

Zeitschrift für Elektrochemie, Berichte der Bunsengesellschaft

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Die gleichzeitige Untersuchung der Veränderung des elektrischen Widerstandes und der photoelektrischen Empfindlichkeit dünner im Ultra‐Hochvakuum aufgedampfter Metallfilme durch Chemisorption von Gasen läßt auf die Art der Bindung schließen. Danach ähnelt die Bindung zwischen chemisorbierter Molekel und Adsorbens derjenigen einer chemischen Oberflächenverbindung. Während in qualitativer Hinsicht nur geringe Unterschiede bestehen, kann die Stärke der Bindung sehr verschieden sein.Bei der Chemisorption wird Kohlenmonoxyd an Nickel vorwiegend mit der negativen Belegung nach außen gebunden, während gleichzeitig Metallelektronen in Richtung der Molekel stark beansprucht werden. An Kupfer hingegen erfolgt bei tiefen Temperaturen eine Vergrößerung der Elektronenkonzentration zwischen den beiden Partnern, verbunden mit einer starken Verschiebung von Metallelektronen zur Molekel hin und von Molekelelektronen in Richtung des Metalls; an Wismut sind zwei Bindungstypen nebeneinander anzunehmen.Stickstoff wird an Nickel nur bei tiefen Temperaturen chemisorbiert, und zwar in ähnlicher Weise wie CO an Kupfer; die Beanspruchung der Metallelektronen ist jedoch schwacher. An Wolfram erfolgt bei 293°K eine schwache Dissoziation des Stickstoffs, die zu einer Bindung mit der negativen Belegung nach außen führt.Sauerstoff dissoziiert an Nickel und Wolfram auch bei 90°K in Atome, die unter starker Beanspruchung von Metallelektronen mit der negativen Belegung nach außen gebunden sind. Auch an Wismut wirken die Sauerstoff‐Atome als Elektronenakzeptoren; gleichzeitig ist auch die Adsorption von molekularem Sauerstoff zu beobachten, der das Elektronen‐Austrittspotential der Wismut‐Oberfläche herabsetzt.Die Adsorption von Wasserstoff an Wismut ist sehr gering und wahrscheinlich molekular. An den d‐Metallen Nickel und Platin liegen nebeneinander molekularer und atomarer Wasserstoff vor. Der letztere kann als H− chemisorbiert werden oder in Proton und Elektron dissoziieren. Hierbei vermag er in die Film‐Oberfläche einzudringen, bei Platin stärker als bei Nickel.

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Über die Chemisorption von Wasserstoff an dünnen aufgedampften Platinfilmen

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The Influence of Adsorption on Electrical and Magnetic Properties of Thin Metal Films

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Über die Elektronenbeanspruchung bei der Chemisorption des Benzols an Nickel bei tiefen Temperaturen

Die elektronische Wechselwirkung als Vorstufe chemischer Reaktionen zwischen Metallen und chemisorbierten Gasen

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