Ni-Filme von ca. 3 μ, 1,5 μ und 120 bis 560 A Schichtdicke werden im Ultrahochvakuum auf Duranglasplatten bei 293° oder 77°K aufgedampft und ihre Oberfläche im Abdruckverfahren im Elmiskop I abgebildet. Von den dünnen Filmen werden gleichzeitig Durchstrahlungsaufnahmen hergestellt. Die Abhängigkeit der Struktur und der Korngröße von Aufdampf- und Temperungstemperatur wird ermittelt. Die Kristallite werden an der Außenseite im allgemeinen durch Würfel- und Oktaederflächen begrenzt, die häufig parallel zur Filmoberfläche liegen. Von einer Temperungstemperatur von 100°C ab zeigen die Kristallite der bei 77°K aufgedampften Ni-Filme die Tendenz, durch Zusammenwachsen große Kristallite zu bilden. Je dünner der bei 77° oder 293°K aufgedampfte Film ist, um so kleiner sind die beobachteten Kristallite. Die Kontrastverhältnisse bei den Durchstrahlungsaufnahmen werden im wesentlichen nicht durch verschiedene Dicke der Kristallite, sondern durch verschiedenartige BRAGGsche Reflexion hervorgerufen.
Die elektronische Wechselwirkung zwischen CO‐ und W‐Filmen wird durch Messungen der Änderung des elektrischen Widerstandes R und des Elektronen‐Austrittspotentials Φ ermittelt. R und Φ werden durch CO‐Adsorption erhöht. Dieses Verhalten stimmt überein mit dem der Systeme CO/Nickel und CO/Eisen. Bei 90 °K wird CO mit verschieden starker Bindung adsorbiert. Beim Erwärmen auf Raumtemperatur geht die schwächer gebundene Form in die stärker gebundene über.
Am Zerfall der Ameisensäure an durchsichtigen aufgedampften Nickelfilmen wird gezeigt, in welcher Weise die Elementarprozesse einer Zerfallsreaktion ermittelt werden können, wenn die Richtung des Elektronenübergangs bei der Adsorption der möglichen Zerfallsprodukte bekannt ist. Die elektronische Wechselwirkung wird durch Messung der Widerstandsänderung der Filme während des Adsorptionsvorganges untersucht.
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