“…В [13] было предсказано существование тепловольтаического эффекта, заключающегося в генерации носителей заряда в нагреваемом полупроводнике с поглощением субзонных фотонов, происходящим с участием приме-сей и (или) дефектов, дающих глубокие энергетические уровни и присутствующих в Si в больших, более чем 3×10 18 см −3 , концентрациях. Экспериментально этот эффект был обнаружен в 2007 г. на материалах, априори изобилующих дефектами и (или) примесями, дающими в кремнии глубокие энергетические уровни, а именно, на нагреваемых структурах из поликристаллического кремния [14], затем на переплавленном на солнечной печи техническом кремнии [15] и, наконец, на образцах монокристаллического кремния, облученных быстрыми электронами с энергией 1 МэВ или подвергнутых ионной имплантации щелочных металлов, но в обоих случаях, без отжига наведенных радиационных дефектов [16]. Проявление тепловольтаического эффекта сопровождается аномальным, ростом коэффициента Зеебека, измеряемого на таких Si образцах при нагреве.…”