I n transmission electron microscopy of crystal lattice defects, the imaging of details smaller than a few nanometres requires the consideration of the electron optical imaging process in addition to the study of the interaction between electron beam and crystal. A method is described combining the calculation of diffraction contrast amplitudes with the Fourier transformation formalism for simulating bright-or dark-field diffraction contrasts and lattice fringe images of arbitrarily small crystal defects. Simulated images are presented demonstreting the npplica,bility of this method and the significance of microscope aberrations for the interpretation of diffraction contrast and lattice fringe images. Die Erfassung von Kontrastdetails kleiner als einige Nanometer bei der Kristallgitter-Defektabbildung im Transmissionselektronenmikroskop erfordert die gleichzeitige Untersucliung des elektronenoptischen Prozesses und des JVechselwirkungsprozesses zwischen Elektronenstrahl und Kristall. E Y wird eine Methode beschrieben, die die Kombination der Berechnung der Beugungskontrastamplitudcn mit dem Formalismus der Fouriertransformation ermoglicht, um Hellfeld-oder Dunkelfcld-Beugungskontrast und Netzebenenabbildung fur beliebig klein Kristalldefekte zu simulicren. Es wcrden simulierte Abbildungen kleiner Kristalldefekte unt.ersucht, um die Anaendbarkeit der entwickelten Methode zu demonstrieren und die Bedeutung der elektronenoptischen Aberrationen fur die Interpretation von Beugungskontrast und Netzebenenabbildungen aufzuzeigen. 30*