Liquidphasen-Epitaxie von Si-dotiertem Al,Ga,-,AsFur 850 "C und A'si = 0,04 und 0,l wurden die Liquidus-und Solidusisothermen des quaternaren Systems Ga-Al-As-Si abgeschatzt, Epitaxieschichten mit Hilfe des Abkuhlverfahrens hergestellt und der EinfluB des Siliciums auf die Wachstumsgeschwindigkeit untersucht. Aus der Messung des Hall-Effektes wurden Aussagen uber die Abhangigkeit der Storstellenkonzentration vom Si-Gehalt der Schmelze gemacht. Die Donatorionisierungsenergien variieren von 32 bis 69 meV und fallen proport(iona1 N;'$.The liquidus and solidus isotherms of the quaternary phase diagram Ga-Al-As-Si have been estimated a t 850 "C and Nsi = 0.04 and 0.1. Epitaxial layers were grown and the influence of silicon on the growth rate was investigated. Hall-effect measurements give informations on the dependence of the carrier concentration on the silicon content in the melt. The donor ionization energies vary from 32 to 69 meV and are diminished proportional to N ; /~.