1984
DOI: 10.1063/1.94906
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Laser induced metal deposition from organometallic solution

Abstract: Articles you may be interested inRepair of transparent defects on photomasks by laserinduced metal deposition from an aqueous solution J. Vac. Sci. Technol. B 8, 635 (1990); 10.1116/1.584988Laserinduced metal deposition on semiconductors from liquid electrolytes Appl.

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1
1

Citation Types

0
6
0
1

Year Published

1991
1991
2023
2023

Publication Types

Select...
6
2
2

Relationship

0
10

Authors

Journals

citations
Cited by 45 publications
(7 citation statements)
references
References 16 publications
0
6
0
1
Order By: Relevance
“…Методами LCLD могут быть осаждены на поверхности различных диэлектриков медь [70][71][72], серебро [73], палладий, платина, никель, золото, хром, вольфрам, молибден. Наибольшее практическое значение имеет осаждение меди и, в меньшей степени, никеля в силу их широкого применения в качестве проводящих и антикоррозойных материалов в микроэлектронике [69].…”
Section: рис 4 схематическое изображение ячейки для лазерного осаждunclassified
“…Методами LCLD могут быть осаждены на поверхности различных диэлектриков медь [70][71][72], серебро [73], палладий, платина, никель, золото, хром, вольфрам, молибден. Наибольшее практическое значение имеет осаждение меди и, в меньшей степени, никеля в силу их широкого применения в качестве проводящих и антикоррозойных материалов в микроэлектронике [69].…”
Section: рис 4 схематическое изображение ячейки для лазерного осаждunclassified
“…Many studies have been made into the photolytic and pyrolytic decomposition of organometallic molecules in the gaseous [1], liquid [2] or solid phase [3][4][5][6][7]. We have developed a range of organometallic compounds which can be deposited as thin films by thermal evaporation [8,9].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…Dibenzene complexes of chromium and molybdenum have been used to deposit Cr and Mo with carbon contamination levels below 10% (Yokoyama et al 1984). Gold and copper can be deposited from commercially available plating solutions.…”
Section: -12mentioning
confidence: 99%