Ion-assisted deposition of oxide materials at room temperature by use of different ion sources

Abstract

Thin films of SiO(2), TiO(2), Ta(2)O(5), ZrO(2), and the mixed oxide H4 (Merck) have been deposited onto nonheated glass substrates by electron-beam evaporation in commercial coating plants. All depositions have been carried out with ion assistance provided by three different ion or plasma sources (end-hall, plasma, and cold-cathode sources). The optical film properties such as index of refraction, extinction coefficient, light scattering, and absorption have been examined by spectrophotometry, laser calorimetry, and total integrated light-scatter measurements. Surface morphology has been investigated by atomic force microscopy studies. Furthermore, films have undergone sand erosion tests for the determination of relative wear resistance. The film properties are compared for the three different ion sources.

Ion-assisted deposition processes: industrial network IntIon

“…Three of them are widely used in standard industrial ion assisted deposition processes [3][4][5] : the Denton CC-105 6-8 , the Leybold APS 9,10 , and the Veeco Mark II [11][12][13] . With the main focus on the Denton CC-105 and the Leybold APS, these ion and plasma sources were characterized in order to acquire a detailed knowledge on the typical operation parameters and their dependencies in respect to the ion energies and ion current densities.…”

Physical vapor deposition of fluoride coatings using a pulsed ion source

“…Spectroscopy was done in different spectral regions, from vacuum UV to the far infrared. Mechanical hardness was tested and quantified by sand erosion and subsequent transmission measurements described elsewhere [4] T on :T off = 6s:6s T on :T off = 6s:6s T on :T off = 7s:7s T on :T off = 7s:7s T on :T off = 1s:2s T on :T off = 1s:2s T on :T off = 6s:12s T on :T off = 6s:12s U ST2000 : 60 to 100 V I ST2000 : 1 to 1,7 A U ST2000 : 60 to 100 V I ST2000 : 1 to 1,7 A Fig. 1.…”

Gas-abrasive wear resistance of silicon and boron carbonitride films

“…Идея метода близка к стандартному методу испытаний лакокрасочных покрытий по ГОСТ 20811 -75. Подобная схема испытаний применялась для исследования опти-ческих оксидных покрытий [3], а описанная выше уста-новка использована для определения газоабразивной износостойкости пленок V 2 O 5 [14].…”

“…Явления, свя-занные с образованием шероховатого слоя, также явля-ются эффективными критериями износа. В частности, в [3] контролировалось изменение спектра пропускания в результате газоабразивной обработки. Для решения данной задачи могут быть использованы и спектры от-ражения.…”

“…Особое значение эта проблема приобретет в пустынях, которые рассматриваются как наиболее перспективные терри-тории для создания крупнейших солнечных электро-станций огромной мощности, достаточной для реше-ния проблем электроснабжения на глобальном уровне [2]. Оптические покрытия также могут подвергаться абразивному истиранию и требуют особого контроля износостойкости [3]. Кроме того, современное состоя-ние средств автоматики и прецизионного програм-мируемого управления газовыми потоками позволяет распространить методику обработки материалов в га-зоабразивном потоке на задачи, отличные от простого испытания на износостойкость.…”