2017
DOI: 10.4028/www.scientific.net/jnanor.46.45
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Effects of Electrochemical Etching Time on the Performance of Porous Silicon Solar Cells on Crystalline n-Type (100) and (111)

Abstract: Electrochemical etching was carried out to produce porous silicon based on crystalline silicon n-type (100) and (111) wafers. Etching times of 10, 20, and 30 min were applied. Porous silicon layer was used as anti-reflection coating on crystalline silicon solar cells. The optimal etching time is 20 min for preparing porous silicon layers based on crystalline silicon n-type (100) and (111) wafers. Nanopores with high porosity were produced on the porous silicon layer based on crystalline silicon n-type (100) an… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1
1
1

Citation Types

1
8
0
2

Year Published

2017
2017
2023
2023

Publication Types

Select...
8
1

Relationship

0
9

Authors

Journals

citations
Cited by 16 publications
(11 citation statements)
references
References 30 publications
1
8
0
2
Order By: Relevance
“…The S-band PL emission as observed in both samples indi- cates the quantum confinement of electrons in the nanosized particles in the porous silicon [12]. In addition, as claimed in [13], the increase in the PL intensity is attributed to the total volume of the oriented nanocrystalline on the porous silicon surface, indicating that both etching techniques produced a nanostructure pore on the silicon sample. Therefore, to verify the nanostructures pore size for both samples, the effective mass theory as in [12] was used.…”
Section: Resultssupporting
confidence: 64%
“…The S-band PL emission as observed in both samples indi- cates the quantum confinement of electrons in the nanosized particles in the porous silicon [12]. In addition, as claimed in [13], the increase in the PL intensity is attributed to the total volume of the oriented nanocrystalline on the porous silicon surface, indicating that both etching techniques produced a nanostructure pore on the silicon sample. Therefore, to verify the nanostructures pore size for both samples, the effective mass theory as in [12] was used.…”
Section: Resultssupporting
confidence: 64%
“…A different crystal orientation of the silicon has a different characteristic, whereby n(111) has a higher atomic packaging density and slow growth rate compared to n(100) (Wahab et al, 2016). Previous work conducted by Omar and Salman (2017) investigated different porous structures formed between Si n(100) and Si n(111). These differences are believed to affect the density of pores and characteristic of PS because of different morphology and crystallinity.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…1), що в результаті дозволяє звузити досліджуваний діапазон оптимальних технологічних умов. Однак така оптимізація передбачає проведення великої кількості експериментів по оптичній спектроскопії шарів поруватого кремнію, сформованих за різних значень густини анодного струму і часу анодування [17][18][19][20]. Насамперед це пов'язано з тим, що сукупний вплив даних технологічних умов на антивідбивні властивості поруватого кремнію є багатогранним та складним.…”
Section: рис 1 експериментальна залежність інтегрального коефіцієнтunclassified
“…Для запобігання її пошкодження під час анодування необхідно максимально мінімізувати час перебування структури СЕ в електроліті і зменшити вміст у ньому HF. Хоча, як було показано в роботах [18,21,22], надмірне зменшення концентрації HF в електроліті зумовлює погіршення антивідбивних властивостей створених шарів поруватого кремнію. Тому оптимізацію умов електрохімічного анодування найдоцільніше здійснювати за рахунок зменшення тривалості анодного оброблення.…”
Section: рис 2 сем мікрофотографія фронтальної струмозбиральної конunclassified