À Deus por andar sempre comigo e me conduzir pelos melhores caminhos. Aos meus pais por todo amor e dedicação, por me apoiarem e incentivarem mesmo nas minhas maiores loucuras. Ao meu irmão, que mesmo sendo o caçula, sempre me guiou. Ao meu companheiro de vida, por sempre me encorajar. Impossível colocar em palavras o que vocês significam para mim. Ao Prof. Dr. Marcio Yamamoto pela confiança e oportunidade no início dessa jornada. À minha orientadora Profa. Dra. Carina Ulsen por me acolher, orientar e me permitir crescer profissionalmente. Ao prof. Dr. Henrique Kahn, coordenador do Laboratório de Caracterização Tecnológica, pela oportunidade de me deixar aprender. À Dra. Juliana Antoniassi, que me apoiou e me guiou nessa jornada e por todo tempo dedicado ao meu aprendizado. Ao MSc. Guilherme Nery, por todo conhecimento dividido. Ao Danilo Bittar, diretor da Bruker no Brasil, por possibilitar a realização deste estudo cedendo à oportunidade de execução de parte das análises de difratometria de raios X no laboratório de aplicação da Bruker. Ao Renato Silva, especialista em aplicação, por toda orientação e dedicação no tempo que estive por lá.
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