RESUMOO trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.Palavras-chave: fonte DC de alta tensão, filmes finos, sputtering, nanotecnologia, pulverização catódica, plasmas frios. ABSTRACTThis work is related to the project and construction of a DC high voltage power supply using materials and electronic devices acquired in local stores and to be used in sputtering proposes. The technique allows the obtainment of several kinds of thin films such as metals, oxides, nitrides and others upon solid substrates. In order to perform a test, the DC power supply was installed in a high vacuum system, connecting the power supply directly in a magnetron sputtering gun. Thin films of copper, stainless steel 304 and tungsten of several thickness were deposited upon commercial glass slides. The film thickness, surface morphology, electric resistance, sheet resistance and resistivity were herein analyzed. The power supply shows a good reliability in operation and allows the deposition of several materials in various thickness and substrates.Keywords: DC high voltage power supply, thin films, sputtering, nanotechnology, cold plasmas. ____________________________________________________________________________________ INTRODUÇÃOFilmes finos são camadas formadas por determinado material, com espessura de poucos nanômetros até microns, que desempenham um papel crucial no desenvolvimento de diversos setores da indústria, tais como, microeletrônica, automotiva, aeroespacial, médica, optoeletrônica, química, embalagens e outras [1]. Em geral, são depositados ou crescidos por diversas técnicas sobre inúmeros tipos de substratos visando a obtenção de propriedades físicas ou químicas não apresentadas unicamente pelo substrato [2]. Como exemplo desta afirmação observa-se que filmes finos podem aumentar a dureza de superfícies [3], melhorar a proteção contra corrosão promovida por agentes químicos e ambientais [4], proteger contra a ação de radiação [5], diminuir o atrito de uma superfície [6], imitar o aspecto ótico de metais preciosos em bijuterias [7] filtrar comprimentos de onda específicos em dispositivos optoeletrônicos [8] ou até mesmo favorecer determinadas reações químicas em superfícies, propriedade nec...
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