Деформация Элементарной Ячейки При Прерывистом Напылении Пленок Ниобата Бария-Стронция

Abstract

The epitaxial Sr0.5Ba0.5Nb2O6/MgO thin films with different layer thickness, but the same total thickness have been fabricated by RF-cathode sputtering. It has been determined that layer thickness decreasement leads to an increase in the unit cell strain, which is maintained if the thickness of the subsequent layers does not exceed the critical.

Структурные характеристики выращенных методом RF-катодного напыления тонких пленок Sr-=SUB=-0.61-=/SUB=-Ba-=SUB=-0.39-=/SUB=-Nb-=SUB=-2-=/SUB=-O-=SUB=-6-=/SUB=-/ MgO(001)

“…Учитывая стремление к миниатюризации изделий современной функциональной электроники, в последние десятилетия в физическом материаловедении стало уделяться большое внимание теоретико-экспериментальным исследованиям свойств тонких пленок SBNx, выращенных на диэлектрических (MgO, Al 2 O 3 , SrTiO 3 ) и полупроводниковых подложках (Si n-и p-типа). К настоящему времени, монокристаллические тонкие пленки SBNx успешно получены металлорганическим методом [4] и магнетронным осаждением [5], импульсным лазерным осаждением (ИЛО) [6], а так же RF-катодным напылением [7,8] [8,9]. Однако, к настоящему времени в литературе практически отсутствуют результаты исследований зависимостей параметров структуры для пленок SBNx от толщины.…”