2018
DOI: 10.21883/ftt.2018.01.45285.179
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Генерация второй оптической гармоники и ее фотоиндуцированная динамика в сегнетоэлектрике-полупроводнике Sn-=SUB=-2-=/SUB=-P-=SUB=-2-=/SUB=-S-=SUB=-6-=/SUB=-

Abstract: Методом оптической накачки-зондирования исследована сверхбыстрая динамика нелинейно-оптического отклика кристалла сегнетоэлектрика-полупроводника Sn 2 P 2 S 6 , возбуждаемая с помощью фемтосекундного лазерного импульса. Показано, что под воздействием фемтосекундных импульсов в образце происходит изменение генерации второй оптической гармоники, что может быть связано с экранировкой существующей электрической поляризации.Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования и науки РФ (грант 14.Z50.… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2020
2020
2020
2020

Publication Types

Select...
1

Relationship

0
1

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(1 citation statement)
references
References 27 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…Благодаря зависимости интенсивности второй гармоники от взаимной ориентации поляризации возбуждающего излучения относительно кристаллофизических осей (далее -угловая и азимутальная зависимость), можно в конкретной локальной области образца получить количественную экспресс-информацию о кристаллическом состоянии и совершенстве приповерхностного слоя исследуемой структуры, ее реальной ориентации в этой области с погрешностью не более градуса, и об относительной плотности дефектов в однотипных структурах. Данный метод эффективен для получения информации от сложных полупроводниковых структур для широкой области применений, особенно в микроэлектронике и оптоэлектронике [1][2][3][4][5][6]. Изучение последовательных стадий эпитаксиальной технологии позволяет определить оптимальные условия получения структур.…”
Section: Introductionunclassified
“…Благодаря зависимости интенсивности второй гармоники от взаимной ориентации поляризации возбуждающего излучения относительно кристаллофизических осей (далее -угловая и азимутальная зависимость), можно в конкретной локальной области образца получить количественную экспресс-информацию о кристаллическом состоянии и совершенстве приповерхностного слоя исследуемой структуры, ее реальной ориентации в этой области с погрешностью не более градуса, и об относительной плотности дефектов в однотипных структурах. Данный метод эффективен для получения информации от сложных полупроводниковых структур для широкой области применений, особенно в микроэлектронике и оптоэлектронике [1][2][3][4][5][6]. Изучение последовательных стадий эпитаксиальной технологии позволяет определить оптимальные условия получения структур.…”
Section: Introductionunclassified