Untersuchungen von Sonderfällen der Spannungskorrosion bei homogenen, nicht übersättigten Mischkristallen und der hierbei auftretenden elektrochemischen Prozesse. Teil II: Weitere Untersuchungen zur Spannungskorrosion des Messings

Abstract

Außer durch ammoniakhaltige basische Agenzien wird auch durch saure ammoniakfreie, jedoch Cu++‐Ionen enthaltende Agenzien bei Messing Spannungskorrosion ausgelöst, allerdings in geringerem Maße. In diesen Agenzien entsteht als Reaktionsprodukt Cu2O, das die für das Auftreten eines ausgeprägten elektrochemischen Prozesses in den Spalten und Rissen nötigen kathodischen Bereiche bildet und, im Gegensatz zu CuO, auch in sauren Lösungen bis zu einem pH von etwa 2 beständig ist. Der Rißverlauf ist bei Ms 70 und 63 bevorzugt transkristallin, die Rißbildung eigentümlich verzweigt und verbreitert. Dies wird damit erklärt, daß das Cu2O in einzelnen unzusammenhängenden Kristallen auftritt und daher die Rißwände nicht gleichmäßig bedeckt. Dadurch werden diese örtlich stärker angegriffen, wodurch es zu Verzweigungen der Risse kommt.