2021
DOI: 10.1063/5.0032728
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Ultrafast carrier and spin dynamics in GaMnAs across the Curie temperature

Abstract: The carrier and spin dynamics of the diluted ferromagnetic semiconductor GaMnAs are crucial to understanding its ferromagnetic nature, especially near the Curie temperature (TC). Herein, transient differential reflectivity measurements and the temporal evolution of Kerr rotation are shown using ultrafast optical spectroscopy at various temperatures. The energy and angular momentum transfer routes after femtosecond laser pumping are revealed. The hole dynamics consist of two processes: a fast process that arise… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2021
2021
2021
2021

Publication Types

Select...
2

Relationship

0
2

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(1 citation statement)
references
References 30 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…Ранее нами была показана возможность применения метода импульсного лазерного нанесения (ИЛН) в сочетании с послеростовым импульсным лазерным отжигом (ИЛО) для формирования (Ga, Mn)As с высокими значениями температуры Кюри (80−100 K) [1]. При этом импульсный лазерный отжиг слоев (Ga, Mn)As, сформированных методом ИЛН, используется для повышения температуры Кюри от типичных для метода ИЛН значений 30−40 K до 80−100 K, сопоставимых с мировыми аналогами [2][3][4]. В работе [5] нами была исследована возможность модифицирования импульсным лазерным отжигом свойств слоя (Ga, Mn)As, расположенного на поверхности квантово-размерной гетероструктуры InGaAs/GaAs, с сохранением ее излучательных свойств.…”
Section: Introductionunclassified
“…Ранее нами была показана возможность применения метода импульсного лазерного нанесения (ИЛН) в сочетании с послеростовым импульсным лазерным отжигом (ИЛО) для формирования (Ga, Mn)As с высокими значениями температуры Кюри (80−100 K) [1]. При этом импульсный лазерный отжиг слоев (Ga, Mn)As, сформированных методом ИЛН, используется для повышения температуры Кюри от типичных для метода ИЛН значений 30−40 K до 80−100 K, сопоставимых с мировыми аналогами [2][3][4]. В работе [5] нами была исследована возможность модифицирования импульсным лазерным отжигом свойств слоя (Ga, Mn)As, расположенного на поверхности квантово-размерной гетероструктуры InGaAs/GaAs, с сохранением ее излучательных свойств.…”
Section: Introductionunclassified