2019
DOI: 10.1002/pssa.201900323
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

The Effects of Aluminum Gettering and Thermal Treatments on the Light‐Emitting Properties of Dislocation Structures in Self‐Implanted Silicon Subjected to Boron Ion Doping

Abstract: The effect of aluminum gettering (AlG) procedures and thermal treatments on the temperature dependence of the photoluminescence of dislocation structures in silicon formed by Si+ ion implantation and modified by boron ion doping with various doses is investigated. It is shown that the temperature dependence of the D1 line intensity of dislocation‐related luminescence undergoes radical changes as a result of both AlG and thermal treatments at identical regimes. After AlG, the shape of the temperature dependence… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0

Year Published

2020
2020
2023
2023

Publication Types

Select...
3

Relationship

0
3

Authors

Journals

citations
Cited by 3 publications
(1 citation statement)
references
References 32 publications
0
0
0
Order By: Relevance
“…С тех пор как была обнаружена дислокационная фотолюминесценция (ФЛ) в кремнии при температуре жидкого гелия [1], проводились многочисленные исследования различных технологических методов, направленные на увеличение интенсивности дислокационной люминесценции (ДЛ) и температуры, при которой она наблюдается (см. [2][3][4] и литературу в них). Наиболее успешными оказались методы, основанные на лазерной перекристаллизации [5], одноосном сжатии [6] и имплантации ионов Si + или Er + с последующим отжигом в хлорсодержащей атмосфере (ХСА) [3,7], которые позволили создать светодиоды (СД) с дислокационной электролюминесценцией (ЭЛ) при комнатной температуре.…”
Section: Introductionunclassified
“…С тех пор как была обнаружена дислокационная фотолюминесценция (ФЛ) в кремнии при температуре жидкого гелия [1], проводились многочисленные исследования различных технологических методов, направленные на увеличение интенсивности дислокационной люминесценции (ДЛ) и температуры, при которой она наблюдается (см. [2][3][4] и литературу в них). Наиболее успешными оказались методы, основанные на лазерной перекристаллизации [5], одноосном сжатии [6] и имплантации ионов Si + или Er + с последующим отжигом в хлорсодержащей атмосфере (ХСА) [3,7], которые позволили создать светодиоды (СД) с дислокационной электролюминесценцией (ЭЛ) при комнатной температуре.…”
Section: Introductionunclassified