Surface, kinetics and electrocatalytic properties of Ti/(IrO2 + Ta2O5) electrodes, prepared using controlled cooling rate, for ozone production

Influência das condições de resfriamento sobre as propriedades superficiais e eletroquímicas de anodos dimensionalmente estáveis

“…14,21,24,25 Portanto, perfis j vs. E no domínio pseudocapacitivo (1,025-1,121 V) foram registrados em função da velocidade de varredura do potencial, n, para os diferentes eletrodos.…”

“…14,24,25 Os valores das pseudocapacitân-cias total, C T , e externa, C E , foram obtidos a partir dos coeficientes angulares observados nos domínios das baixas (n < 50 mV s -1 ) e elevadas (n > 70 mV s -1 ) velocidades de varredura, respectivamente. A pseudocapacitância interna, C I , e o fator de morfologia, j, foram calculados empregando-se as relações C I = C T -C E e j = C I /C T , respectivamente.…”

“…Além disso, foi constatado neste estudo que o parâmetro morfológico j (Tabela 3) aumenta com a temperatura de calcinação. Portanto, considerando-se que algumas das especulações teóricas a respeito dos desvios da idealidade para o processo de transferência de carga em eletrodos sólidos contemplam o fenômeno da dispersão do campo elétrico superficial induzido pela rugosidade superficial, 14,22,26 pode-se inferir que o decréscimo de a apa verificado com o aumento da temperatura de calcinação é ocasionado pelo aumento da dispersão do campo elétrico superficial, o qual pode ser vislumbrado indiretamente no presente estudo pelo parâmetro morfológico j. o C e submetidos ao processo de resfriamento lento apresentarem maiores valores de t 6V , quando comparados aos eletrodos resfriados em condição de choque térmico, pode ser atribuído à presença de uma menor concentração superficial de rachaduras/fissuras profundas. 8,13 Neste contexto, à medida que os filmes de óxidos se tornam mais compactos, ocorre que a penetração do eletrólito nas rachaduras/ fissuras até a superfície do suporte de titânio se torna menos provável impedindo, portanto, a passivação gradativa da interface Ti/filme.…”

“…1,[10][11][12][13] Estudos revelam que a origem da influência do ADE sobre a velocidade dos processos eletródicos está relacionada com a presença de efeitos eletrocatalíticos verdadeiros (redução na barreira de ativação para o processo de transferência eletrônica) e aparentes, devida à influência da extensão da área eletroquimicamente ativa na eletrocatálise heterogênea. [11][12][13][14][15][16] A influência da temperatura de calcinação sobre as propriedades superficiais e eletroquímicas de eletrodos do tipo ADE já foi relatada para diferentes sistemas binários e ternários. [15][16][17] No entanto, se verifica nestes casos que o processo adotado na etapa de resfriamento dos filmes é o choque térmico baseado na remoção abrupta dos filmes do forno utilizado no processo de calcinação.…”

“…A influência do processo de resfriamento lento sobre as propriedades superficiais e eletrocatalíticas de sistemas binários (IrO 2 +Ta 2 O 5 e IrO 2 +Nb 2 O 5 ) foi investigada com base nas reações de desprendimento de oxigênio e ozônio, 14,18 onde se verificou que o processo de resfriamento lento pode modificar de forma considerável estas propriedades, bem como o tempo de vida útil dos eletrodos.…”