A spatially variable drift mobility model for Hg,-$d,Te with x x 0.2, outlined in a previous paper, is applied to infrared photodiodes. For this purpose the mobility program was self-consistently incorporated into the 2D device simulator TOSCA. Zero voltage mobility profiles of electrons and heavy holes are obtained restricting the scattering mechanisms to polar optical phonon and ionized impurity scattering for clearness. Besides the doping profile and the dominating scattering processes, the local mobility is determined by degeneracy and screening effects. Forward biased, heavily doped junctions exhibit a remarkable change of the mobility profile. The averaged mobility increases with rising positive voltage, which results in steeper I-U curves. The reverse biased mobility profile is only little affected, but reflects the increasing depletion by a broadening mobility well. Ein ortsabhangiges Model1 der Driftbeweglichkeit in Hg, -,Cd,Te rnit x = 0,2, das fruher entwickelt wurde, wird auf Infrarot-Photodioden angewendet. D a m wurde das Beweglichkeitsprogramm selbstkonsistent in den 2D-Bauelemente-Simulator TOSCA eingebaut. Man erhdt Beweglichkeitsprofile der Elektronen und schweren Locher im Gleichgewicht, wobei zur Deutlichkeit nur die Streuung an polar-optischen Phononen und ionisierten Storstellen berucksichtigt wurde. Neben dem Dotierungsprofil und den dominanten Streuprozessen wird die lokale Beweglichkeit ,)on Entartungs-und Abschirmungseffekten bestimmt. Stark dotierte und positiv vorgespannte Ubergange zeigen eine betrachtliche Veranderung des Beweglichkeitsprofils. Die mittlere Beweglichkeit wachst mit steigender positiver Spannung, was zu steileren I-U-Kurven fiihrt. Im Sperrfall wird das Beweglichkeitsprofil nur leicht verandert, es spiegelt jedoch direkt die wachsende Verarmung durch ein breiter werdendes Beweglichkeitsminimum wieder.