Size Effects in Galvanomagnetic Properties

Tellier, C. R.; Tosser, A. J.

doi:10.1016/b978-0-444-42106-7.50006-1

Cited by 2 publications

(3 citation statements)

References 60 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…91,92 These parameters determine the efficiency of the momentum transfer to the film atoms 93 and have been shown to have implications on the film microstructure 91 as well as on mechanical, optical, and electrical properties. 90,94,95 In HiPIMS, high pulsed ion fluxes are made available at the substrate. In the next sections the effect of the energetic bombardment during HiPIMS on the growth and the properties of elemental and compound films is reviewed.…”

Section: Thin Film Processingmentioning

confidence: 99%

“…113,114 C. Control of film microstructure and interface engineering Polycrystalline films grown by PVD techniques exhibit a variety of microstructures with respect to the size, the morphology, and the relative orientation of the crystallites. 91,119 These features have, for instance, implications for the mechanical strength 120 and the electrical conductivity 94,95,121 of the film. The microstructure is determined primarily by surface and bulk diffusion processes, 91,119 which are controlled by the deposition temperature, the bombardment by energetic species, and the incorporation of impurities that act as inhibitors for the crystal and grain growth.…”

Section: B Phase Composition Tailoring By Hipimsmentioning

confidence: 99%

See 1 more Smart Citation

An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering

2012

View full text Add to dashboard Cite

High-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is a promising sputtering-based ionized physical vapor deposition technique and is already making its way to industrial applications. The major difference between HiPIMS and conventional magnetron sputtering processes is the mode of operation. In HiPIMS the power is applied to the magnetron (target) in unipolar pulses at a low duty factor (andlt;10%) and low frequency (andlt;10 kHz) leading to peak target power densities of the order of several kilowatts per square centimeter while keeping the average target power density low enough to avoid magnetron overheating and target melting. These conditions result in the generation of a highly dense plasma discharge, where a large fraction of the sputtered material is ionized and thereby providing new and added means for the synthesis of tailor-made thin films. In this review, the features distinguishing HiPIMS from other deposition methods will be addressed in detail along with how they influence the deposition conditions, such as the plasma parameters and the sputtered material, as well as the resulting thin film properties, such as microstructure, phase formation, and chemical composition. General trends will be established in conjunction to industrially relevant material systems to present this emerging technology to the interested reader.Funding Agencies|Swedish Research Council (VR)|623-2009-7348

show abstract

Section: Thin Film Processingmentioning

confidence: 99%

Section: B Phase Composition Tailoring By Hipimsmentioning

confidence: 99%

An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering

2012

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…Основні результати теоретичного дослідження транспортних розмірних ефектів у полікристалічних плівках наведено у моно-графії [11].…”

Section: вступunclassified

Transport Size Effects in Double-Layer Polycrystalline Films

2007

View full text Add to dashboard Cite

В огляді систематизовано результати теоретичних досліджень транспорт-них розмірних ефектів у двошарових полікристалічних плівках (ДП), кі-нетичні характеристики яких суттєво відріжняються від відповідних ха-рактеристик масивних металів і тонких плівок. Однією з головних при-чин такої відмінности є взаємодія носіїв заряду із зовнішніми межами і межею поділу шарів металу (зовнішній розмірний ефект) та взаємодія електронів з міжкристалітними межами (внутрішній розмірний ефект). Така взаємодія призводить до додаткового розсіяння носіїв заряду, і транспортні коефіцієнти можуть бути значно менші (більші) за кінетичні коефіцієнти металів, з яких виготовлено окремі шари металу. Внаслідок зерномежової низькотемпературної взаємної дифузії металів в ДП розсів-на здатність міжкристалітних меж змінюється, що призводить до зміни провідности двошарової плівки. Дослідження такої зміни дозволяє ви-значити коефіцієнт зерномежової дифузії. Теоретично розглянуті в огляді ефекти можна використати для аналізи транспортних ефектів у двошаро-вій полікристалічній плівці та для оцінки коефіцієнта зерномежової ди-фузії.В обзоре систематизированы результаты теоретического исследования транспортных размерных эффектов в двухслойной поликристаллической пленке (ДП) кинетические характеристики которой существенно отли-чаются от соответствующих характеристик массивных металлов и тонких пленок. Одной из основных причин такого отличия является взаимодей-ствие носителей заряда с внешними поверхностями и границей раздела (внешний размерный эффект) и взаимодействие электронов с межкри-сталлитными границами (внутренний размерный эффект). Такое взаимо-действие приводит к дополнительному рассеянию носителей заряда, и транспортные коэффициенты могут быть значительно меньше (больше) кинетических коэффициентов металлов, из которых изготовлены отдель-ные слои металла. Вследствие низкотемпературной зернограничной вза-имной диффузии металлов рассеивающая способность межкристаллит- Fiz. Met. 2007, т. 8, сс. 21-64 Оттиски доступны непосредственно от издателя Фотокопирование разрешено только в соответствии с лицензией © 2007 hlt (h…"2,232 ìе2=ëë%-,ƒ,*, ,ì. c. b. j3!äþì%"= m`m r*!=,…/) m=Cе÷=2=…% " r*!=,…е.

show abstract

Size Effects in Galvanomagnetic Properties

Cited by 2 publications

References 60 publications

An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering

An introduction to thin film processing using high-power impulse magnetron sputtering

Transport Size Effects in Double-Layer Polycrystalline Films

Contact Info

Product

Resources

About