Diinne Schichten fur Komponenten der modernen Mikroelektronik entstehen oft nach einem Verfahren, das als ,,Plasma cnhanced chemical vapor deposition" (abgekurzt: PECVD) bezeichnet wird. Amorphe Solarzellen, Mikroprozessoren und Inforniationsspeicher sind ohne dicsc Methode, die physikalische Bearbeitungstechniken und chemische Reaktiotisfiihrung kombiniert, nicht vorstellbar.