UVX 2010 - 10e Colloque Sur Les Sources Cohérentes Et Incohérentes UV, VUV Et X ; Applications Et Développements Récents 2011
DOI: 10.1051/uvx/2011014
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L’endommagement des optiques du LMJ : problématique, mécanismes et métrologie

Abstract: Résumé. Cet article traite de la problématique de l'endommagement laser sur les installations de fortes puissances. La métrologie mise en oeuvre pour mesurer la durée de vie des optiques en laboratoire mais également sur chaîne est exposée. Quelques mécanismes à l'origine de l'endommagement laser sont également présentés ainsi que des solutions mises en oeuvre afin de réduire les niveaux d'endommagement.

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