2013
DOI: 10.1016/j.spmi.2013.09.018
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Influence of deposition temperature on the growth of rutile TiO2 nanostructures by CBD method on seed layer prepared by RF magnetron sputtering

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“…Los resultados de Eg para las películas delgadas se reportan en la Tabla 2; se puede observar claramente que estos valores se encuentran entre 2.12 y 2.92 eV. La variación respecto a los valores de Eg reportados para el TiO2 (Selman y Hassan, 2013) puede ser asociada a los métodos de síntesis, los cuales afectan fuertemente las propiedades ópticas y estructurales de las películas, presentando en algunos casos la disminución de la brecha de energía del TiO2 (Rajender y Giri, 2016); igualmente, se reporta que los reactivos empleados en la síntesis de las películas delgadas también influencian sus propiedades (Liu et al, 2016), obteniendo brechas de energía de hasta 2.71 eV en nanocristales de TiO2 (Rajender et al, 2016).…”
Section: Resultados Y Discusiónunclassified
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“…Los resultados de Eg para las películas delgadas se reportan en la Tabla 2; se puede observar claramente que estos valores se encuentran entre 2.12 y 2.92 eV. La variación respecto a los valores de Eg reportados para el TiO2 (Selman y Hassan, 2013) puede ser asociada a los métodos de síntesis, los cuales afectan fuertemente las propiedades ópticas y estructurales de las películas, presentando en algunos casos la disminución de la brecha de energía del TiO2 (Rajender y Giri, 2016); igualmente, se reporta que los reactivos empleados en la síntesis de las películas delgadas también influencian sus propiedades (Liu et al, 2016), obteniendo brechas de energía de hasta 2.71 eV en nanocristales de TiO2 (Rajender et al, 2016).…”
Section: Resultados Y Discusiónunclassified
“…El TiO2 puede ser preparado por el método de anodizado electroquímico (Momeni et al, 2015), deposición por baño químico (CDB por sus siglas en inglés: Chemical Bath Deposition) (Selman et al, 2013), pulverización catódica o "sputtering" (Hui Wang et al, 2015), sol gel (Leyva-Porras et al, 2015), etc. A partir de lo reportado en la literatura, se puede observar que la morfología de su superficie y/o topografía está en dependencia con el método de preparación (Xu et al, 2015;Bukauskas et al, 2015;Dussan y Quiroz, 2015).…”
Section: Introductionunclassified
“…The higher value of R is due to TiO 2 NRs, which provide high density for large and rough surface areas, as well as a good MSM-structured UV detector fabricated in the (Pt/TiO 2 NRs/Pt) [63]. A high cut-off at 380 nm was observed, which matches the absorption edge of the rutile TiO 2 in [41]. Photoresponse considerably decreases across the cut-off wavelength, which implies that a photoconductive UV detector with high sensitivity has been fabricated.…”
Section: Current-voltage Characteristicsmentioning
confidence: 86%
“…The seed layer can also promote the growth of rutile TiO 2 because nucleation and deposition require a TiO 2 seed layer [40], which leads to low-temperature formation of rutile TiO 2 . The proposed formation mechanism has been summarized in a previous work [41]. In general, the crystal growth process of rutile TiO 2 NRs must involve nucleation and growth.…”
Section: Morphological and Structural Characterization Of Tio 2 Nanorodsmentioning
confidence: 99%
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