Fermi resonance of molecular complexes with strong hydrogen bond in irradiated LiF:OH crystals

Преобразования радиационно-наведенных молекулярных точечных дефектов и центров окраски в кристаллах LiF под воздействием света

“…Присутствие полосы поглощения ионов OH − в ВУФ-спектре и практическое отсутствие ее в колебательном ИК-спектре свидетельствуют о том, что подавляющая часть ионов гидроксила не распалась на кислородные и водородные дефекты под воздействием γ-и УФ-излучений. Ионы OH − образовали комплексы с сильной H-связью с полосой при ν max = 2200 cm −1 [31,32], поэтому полоса ионов OH − с γ max = 3730 cm −1 не проявилась в ИК-спектре (рис. При обесцвечивании лампой ДНУ-170 вначале на- свободного" гидроксила с ν max = 3730 cm −1 не проявилась.…”

“…Малую интенсивность ИК-полос МК с H-связью, оставшихся после оптического обесцвечивания, можно объяснить, во-первых, разрушением части комплексов с H-связью, во-вторых, укрупнением и усложнением галоидных дефектов и молекулярных кислородсодержащих комплексов, участвующих в H-связи [32,37,39]. Это приводит к преобразованию МК с H-связями с простыми дефектами в МК, содержащие более сложные и крупные молекулярные дефекты, и, в конечном счете, к уменьшению концентрации МК с H-связями, включающими эти более крупные дефекты, что соответствует уменьшению интенсивности полос поглощения в ИК-спектре в области 2800−3800 cm −1 .…”

“…3, кривая 3). [32]. Вследствие этого происходит увеличение поглощения в области сильных H-связей при ν = 1800−2400 cm −1 .…”

“…Также кислородные и водородные дефекты участвуют вместе с ионами и молекулами фтора в образовании молекулярных комплексов с водородной связью (МК с H-связью). Природа МК с H-связью и идентификация колебательных ИК-полос МК с H-связью и U 1 -центров (ионов водорода в междоузлии) до сих пор являются дискуссионными [5,8,[23][24][25][26][27][28][29][30][31][32][33][34][35][36]. Вследствие воздействия ионизирующего излучения в кристалле создаются ЦО, молекулярные дефекты, наночастицы лития (коллоиды лития) и скопления пузырьков газа фтора [2,[37][38][39][40][41].…”

Структура и механизмы образования наноразмерных пленок примесного металла кобальта и никеля в монокристаллах LiF и MgF-=SUB=-2-=/SUB=-

“…Они могут встраиваться не только в узлы решетки, но и скапливаться в дислокациях, границах блоков и других протяженных дефектах. Актуальность проблемы изучения структуры и формы вхождения в кристалл примесных комплексов связана с тем, что кристаллы LiF используются в качестве лазерных сред, дозиметров ионизирующих излучений, для изучения фундаменталь-ных свойств центров окраски и молекулярных точечных дефектов [10][11][12][13][14][15][16][17].…”