Fabrication of silicon nanostructures for application in photonics

Abstract

Silicon is the primary material of modern electronics. It also possesses bright potentials for applications in nanophotonics. At the same time optical properties of bulk silicon do not fully satisfy requirements imposed on them. Fortunately, properties of silicon nanostructures strongly depend on their shapes and sizes. In this regard, of special interest is the development of fabrication and post-processing methods of silicon nanostructures. In this contribution we propose a method for silicon nanostructures fabrication combining the technique of high-vacuum deposition with metal-assisted chemical etching. SEM images as well as ellipsometry, Raman scattering and optical spectroscopy data prove that the desired structural changes were obtained.

Датчик Температуры На Основе Одномерного Фотонного Кристалла С Дефектом

“…Cформированные в оптическом волокне брэгговские длиннопериодные решетки, представляющие собой 1D-фотонный кристалл, используются в качестве чувствительных элементов в датчиках температуры [8]. 1D-фотонные кристаллы с дефектом являются перспективными для сенсорных применений благодаря их простоте, технологичности и спектральной чувствительности полосы пропускания дефекта к внешним воздействиям [9][10][11][12]. В работе [13] показана перспективность использования 1D-фотонного кристалла с дефектом в качестве чувствительного элемента датчика температуры.…”

Temperature sensor on base of pne-dimensional photonic crystal with defect

“…Longperiod Bragg lattices formed in an optical fiber, which are a 1D-photonic crystal, are used as sensitive elements in temperature sensors [8]. The 1D-photonic crystals with a defect are promising for sensor applications due to their simplicity, processibility and spectral sensitivity of the defect bandpass to external influences [9][10][11][12]. The study [13] shows the prospects of using a 1D-photonic crystal with a defect as a sensitive element of a temperature sensor.…”