2015
DOI: 10.1134/s1063784215120130
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Effect of implantation of active metal ions on the elemental and chemical compositions of the CdTe surface

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1
1

Citation Types

0
7
0
4

Year Published

2019
2019
2023
2023

Publication Types

Select...
7

Relationship

0
7

Authors

Journals

citations
Cited by 8 publications
(11 citation statements)
references
References 10 publications
0
7
0
4
Order By: Relevance
“…Особенности на кривой R(E p ), т.е. максимумы на кривой −dR/dE р от E р соответствует переходам электронов из максимумов валентной зоны в максимумы зоны проводимости [11].…”
Section: методика экспериментаunclassified
See 1 more Smart Citation
“…Особенности на кривой R(E p ), т.е. максимумы на кривой −dR/dE р от E р соответствует переходам электронов из максимумов валентной зоны в максимумы зоны проводимости [11].…”
Section: методика экспериментаunclassified
“…Zn 0.4 Te (кривая 2) образцов, снятые при hν=10.8 эВ.Расчеты показывают, что для CdTe Ф≈5.4 эВ, а для Cd 0.6 Zn 0.4 Te -5.6 эВ. Положения пиков в спектре фотоэлектронов, снятые при невысокой энергии фотонов (hν≤15−20 эВ), соответствуют максимумам плотности энергии электронов валентной зоны[11]. Важное научное и практическое значение имеет получение информации о положении максимумов плотности электронных состояний в зоне проводимости.…”
unclassified
“…It was shown that properties of these films mainly depend on a synthesis technique, on their thickness and properties of a near-contact (transitive) layer formed on the boundary film-substrate. In recent years a techniques of lowenergy ion implantation is frequently used for nano-sized structures on the surface and in near-surface region of semiconductor and dielectric films [7][8][9][10]. Particularly, the films of Cd0.5Ba0.5Te were produced by the Ba + ion implantation into CdTe in combination with annealing [10].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…В частности, установлено, что наличие некоторого количества кислорода (до ~10 20 см 3 ) приводит к существенному изменению спектра фотолюминесценции и некоторому уменьшению ширины запрещенной зоны E g пленки CdS. Изучено также влияние бомбардировки ионами Ar + и Ba + на электронные свойства CdTe [9,10]. Данная работа посвящена изучению влияния бомбардировки ионами Ar + на состав, коэффициент преломления света и ширину запрещенной зоны CdS.…”
unclassified
“…При низких дозах облучения D = 5×10 14 см −2 ионы Ar + попадают на отдельные участки поверхности [10]. Средние размеры этих участков составляют ~10-15 нм, а расстояние между центрами соседних участков ~ 50-60 нм.…”
unclassified