2020
DOI: 10.35596/1729-7648-2020-18-3-28-35
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Delocalization of electron states in n-Si at low temperatures

Abstract: Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники (г. Минск, Республика Беларусь) 2 Научно-исследовательское учреждение «Институт ядерных проблем» Белорусского государственного университета (г. Минск, Республика Беларусь) Поступила в редакцию 30 января 2020 © Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники, 2020 Аннотация. Приводятся данные измерений транспортных свойств Si, легированного Sb, в температурном диапазоне 1,9 -3,0 К и при плотностях токов J < 0,2 А/см 2 … Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
0
0

Publication Types

Select...

Relationship

0
0

Authors

Journals

citations
Cited by 0 publications
references
References 10 publications
0
0
0
Order By: Relevance

No citations

Set email alert for when this publication receives citations?