Corrosion behaviour of electrodeposited and sputtered Cr coatings and sputtered Ta coatings with α and β phases

Maeng, S.; Axe, Lisa; Tyson, Trevor; Côté, Paul J.

doi:10.1016/j.surfcoat.2005.08.129

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“…Esta região passiva se estende até potenciais mais altos e depois é seguido por um aumento acentuado na densidade de corrente, comportamento este relacionado com a ruptura local da película de óxido protetor e crescimento de um pite estável. Este revestimento teve uma baixa corrente de corrosão pela formação da barreira anódica e uma inibição catódica de reação de redução de oxigênio, ambos atribuídos ao efeito protetor contínuo da película de óxido/hidróxido de cromo formada nas superfícies [19].…”

Section: Resultados E Discussõesunclassified

“…O revestimento de Cr PVD não exibiu microfissuras, mas sim defeitos de porosidade e vazios comuns para o processo de PVD. O potencial de corrosão do revestimento de Cr PVD foi de -0,075 V, mais nobre que o Cr ED, que apresentou potencial de -0,703 V. Este resultado demonstrou que o revestimento obtido por PVD foi mais resistente à corrosão, potencialmente devido ao filme de óxido passivo [19].…”

Section: Resultados E Discussõesunclassified

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Avaliação de revestimento de cromo por sputtering como alternativa à galvanização

et al. 2020

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RESUMO A elevada resistência à corrosão dos revestimentos decorativos de cromo hexavalente obtidos nos processos de galvanoplastia é bem conhecida pela sua grande utilização e alta eficiência. Esse revestimento tem sido amplamente utilizado na indústria moveleira e de calçados, obtido por eletrodeposição em peças de zamac. No entanto, o processo galvânico apresenta alto grau poluidor devido à quantidade de efluentes geradas e à toxicidade dos produtos químicos utilizados no processo. Sabe-se que o cromo hexavalente é um agente cancerígeno e os resíduos associados são perigosos e difíceis de serem tratados. Neste contexto, o desenvolvimento de novas tecnologias tem visado à obtenção de processos resistentes à corrosão, ambientalmente corretos e economicamente viáveis. A tecnologia alternativa que pode ir ao encontro desta necessidade é o PVD - physical vapor deposition, com o processo de sputtering. Neste sentido, este estudo tem como objetivo avaliar e comparar o desempenho de revestimentos de cromo aplicados por sputtering com verniz em relação ao desempenho do revestimento de cromo eletrodepositado. Para tanto, os revestimentos foram aplicados em zamac e foram caracterizados morfologicamente, eletroquimicamente e físico-quimicamente. Os resultados mostraram que os acabamentos de cromo depositados por sputtering apresentam características equivalentes quanto ao desempenho eletroquímico se comparados ao revestimento cromado no processo convencional, podendo ser uma alternativa de substituição com âmbito sustentável.

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Section: Resultados E Discussõesunclassified

Avaliação de revestimento de cromo por sputtering como alternativa à galvanização

et al. 2020

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“…Due to these characteristics Ta has many applications, for instance as heat and wear resistant protective coatings, as-diffusion barriers in integrated circuits and magnetic disk drives [3][4][5]. Tantalum exists in two distinct phases: a stable α-phase with a body-centered cubic lattice structure and a metastable β-phase with a tetragonal lattice structure.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Phase tailoring of tantalum thin films deposited in deep oscillation magnetron sputtering mode

Ferreira

Sousa

Cavaleiro

et al. 2017

Surface and Coatings Technology

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The effect of energetic ion bombardment on the properties of tantalum thin films was investigated. To achieve such energetic ion bombardment during the process the Ta thin films were deposited by deep oscillation magnetron sputtering (DOMS), an ionized physical vapor deposition technique related to high power impulse magnetron sputtering.The peak power was between 49 and 130 kW and the substrate was silicon at room temperature and ground potential. The directionality and the energy of the depositing species was controlled by changing the ionization fraction of the Ta species arriving at the substrate at different peak powers. In this work, the surface morphology (AFM), microstructure (SEM), structure (XRD) and hardness and Young's modulus (nanoindentation) of the films were characterized. The ion energy distributions (IEDs) were measured using an electrostatic quadrupole ion energy and mass spectrometer (HIDEN EQP 300). The IEDs showed that the DOMS process applies a very energetic (up to 120 eV) ion bombardment on the growing tantalum films. Therefore, with such conditions it was possible to deposit pure α-Ta (of 2 µm of thickness) without the use of additional equipment, i.e., without substrate bias or substrate heating. Conditions are therefore significantly different than in previous works, offering a much simpler and cheaper solution to up-scale for industrial operation.

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“…By using this technology, a uniform and dense alloyed layer can be obtained on the surface of metallic materials. In the present study, Cr‐Nb alloyed layer was formed on the surface of the annealed low carbon steel, the microstructure and corrosion resistance of the alloyed layer were investigated .…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Microstructure and corrosion resistance behavior of Cr‐Nb alloyed layer on low carbon steel

Zhu

Zhang

Wei

et al. 2015

Materials & Corrosion

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The Cr‐Nb alloyed layer formed on the surface of low carbon steel by double glow plasma surface alloying could improve the corrosion resistance of the substrate. The morphology and microstructure of the layer were investigated by scanning electron microscopy, energy dispersive spectrometer and X‐ray diffraction. The average thickness of the alloyed layer is approximately 18 µm. A uniform and dense Cr‐Nb alloyed layer had been synthesized without any cracks and holes on the surface of low carbon steel. The corrosion behavior of the alloyed layer was evaluated by polarization experiments in 3.5 wt% NaCl solution using a CHI660D type electrochemical workstation. Potentiodynamic polarization and electrochemical impedance spectroscopy were applied to evaluate the corrosion resistance of the alloyed layer. Compared with the substrate, the Cr‐Nb alloyed layer exhibited higher corrosion potential, lower corrosion current density and larger charge transfer resistance. The result presents that Cr‐Nb alloyed layer has significantly modified the corrosion resistance of low carbon steel.

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Corrosion behaviour of electrodeposited and sputtered Cr coatings and sputtered Ta coatings with α and β phases

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Avaliação de revestimento de cromo por sputtering como alternativa à galvanização

Avaliação de revestimento de cromo por sputtering como alternativa à galvanização

Phase tailoring of tantalum thin films deposited in deep oscillation magnetron sputtering mode

Microstructure and corrosion resistance behavior of Cr‐Nb alloyed layer on low carbon steel

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