A theoretical and experimental study is carried out on the behaviour of the Li donor impurity in the Si lattice with vacancy-like (V) radiation-induced defects. The electronic and geometrical structure of the cluster Si,H,, + Li, simulating the V f Li, complex in Si is calculated by the discrete variational X,-method. It is found that the cubic tetrahedral configuration of the complex is geometrically stable where the 8t2 state near the edge of the valence band is completely populated. The principal possibility of passivation of the V-type defects by Li atoms is checked experimentally on n-and p-Si samples with a Li concentration of x 1017 cm-' irradiated by reactor neutrons at fluences of 1.6 x and 3.4 x 10l6 cm-3. The temperature dependences of the conductivity, Hall constant, and mobility are measured. It is shown that at high Li atom concentrations considerably in excess of the concentration of the dopant and radiation-induced defects the electrical characteristics of the irradiated Si restore to the original level which is in agreement with the calculations on the passivation of the Li atoms by the V-states in Si.Das Verhalten der Li-Donatorstorstelle im Si-Gitter mit leerstellenahnlichen (V), strahlungsinduzierten Defekten wird theoretisch und experimentell untersucht. Die elektronische und geometrische Struktur des Clusters Si,HI2 + Li,, der den V + Li,-Komplex in Si simuliert, wird mit der diskreten X,-Variationsmethode berechnet. Es wird gefunden, daS die kubisch tetraedrische Konfiguration des Komplexes geometrisch stabil ist, wobei der 8t,-Zustand in der Nahe der Valenzbandkante vollstandig besetzt ist. Die prinzipielle Moglichkeit der Passivierung der V-Defekte durch Li-Atome wird experimentell uberpriift an n-und p-leitenden Si-Proben mit Li-Konzentrationen von 1017 aW3, die mit Reaktorneutronen bei Flussen von 1,6 x 10'' , 4 x loL5 und 3,4 x 1OI6 cm-3 bestrahlt wurden.Die Temperaturabhangigkeiten der Leitfahigkeit, Hall-Konstante und Beweglichkeiten werden gemessen. Es wird gezeigt, daI3 bei hohen Li-Atomkonzentrationen, die die Konzentration der Dotanden und strahlungsinduzierten Defekte betrachtlich ubersteigen, sich die elektrischen Charakteristiken des bestrahlten Si auf das urspriingliche Niveau zuruckbilden, was in obereinstimmung mit den Berechnungen zur Passivierung der Li-Atome durch die V-Zustande in Si ist.