“…This preferential pore alignment has an important implication for the optical properties of the layers [3]. Etched Si layers electrochemically formed on p-type Si (110) wafers reveal strong in-plane birefringence [1,2,3]. Birefringent etched Si layers demonstrate properties of a uniaxial negative crystal whose optical axis lies along the [001] in-plane crystallographic direction [4].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…The reduced symmetry of the dielectric function of etched Si layers originates from the selective pore dispersion in equivalent [100] crystallographic directions. This preferential pore alignment has an important implication for the optical properties of the layers [3]. Etched Si layers electrochemically formed on p-type Si (110) wafers reveal strong in-plane birefringence [1,2,3].…”
Photo-electrochemical etched Si layers were prepared on n-type (110) oriented silicon wafer. SEM results shows groove structure for etched Si (110). The photoluminescence (PL), Fourier transformed infrared (FTIR) absorption and Raman spectroscopy of etched Si (110) as a function of etching time was studied. All samples showed a PL peak in the visible spectral and the intensity of the PL peak increases with rising of the etching time. It is also found that the Raman peak of the etched Si samples is red shifted and its intensity significantly decreases as the etching time increases.
“…This preferential pore alignment has an important implication for the optical properties of the layers [3]. Etched Si layers electrochemically formed on p-type Si (110) wafers reveal strong in-plane birefringence [1,2,3]. Birefringent etched Si layers demonstrate properties of a uniaxial negative crystal whose optical axis lies along the [001] in-plane crystallographic direction [4].…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…The reduced symmetry of the dielectric function of etched Si layers originates from the selective pore dispersion in equivalent [100] crystallographic directions. This preferential pore alignment has an important implication for the optical properties of the layers [3]. Etched Si layers electrochemically formed on p-type Si (110) wafers reveal strong in-plane birefringence [1,2,3].…”
Photo-electrochemical etched Si layers were prepared on n-type (110) oriented silicon wafer. SEM results shows groove structure for etched Si (110). The photoluminescence (PL), Fourier transformed infrared (FTIR) absorption and Raman spectroscopy of etched Si (110) as a function of etching time was studied. All samples showed a PL peak in the visible spectral and the intensity of the PL peak increases with rising of the etching time. It is also found that the Raman peak of the etched Si samples is red shifted and its intensity significantly decreases as the etching time increases.
“…Пропускание излуче-ния, поляризованного вдоль протяженных кластерных образований, меньше, чем пропускание излучения, по-ляризованного поперек протяженных кластерных обра-зований. Заметим, что близкие нашим результаты были получены в работе [6] для пленок пористого кремния, в котором была cформирована анизотропная структура, с " вытянутыми" в одном направлении нанокристаллами. Полученные результаты авторы [6] объясняли меньшей величиной электрического поля внутри нанокристаллов в случае поляризации электромагнитной волны перпен-дикулярно вытянутому направлению нанокристаллов.…”
Section: результаты и их обсуждениеunclassified
“…Заметим, что близкие нашим результаты были получены в работе [6] для пленок пористого кремния, в котором была cформирована анизотропная структура, с " вытянутыми" в одном направлении нанокристаллами. Полученные результаты авторы [6] объясняли меньшей величиной электрического поля внутри нанокристаллов в случае поляризации электромагнитной волны перпен-дикулярно вытянутому направлению нанокристаллов. Таким образом, анизотропия структуры нанометрового размера, показанная на рис.…”
Два типа независимых анизотропных структур были сформированы одновременно в результате структур-ной модификации пленок аморфного гидрогенизированного кремния облучением фемтосекундного лазера: структура с периодом в единицы−десятки микрометров и структура с периодом в сотни нанометров. Различие механизмов возникновения данных структур позволяло желаемым образом формировать их относи-тельную ориентацию. Обе структуры независимо влияли на оптические свойства модифицированных пленок, приводя к дифракции проходящего света и возникновению поляризационной оптической чувствительности пленок. Проводимость модифицированных пленок коррелировала с взаимной ориентацией анизотропных структур, в то время как взаимосвязи фотопроводимости с оптическими особенностями модифицированных пленок обнаружено не было.
“…(Liu, 1994), a description of the distribution of the p-component of the local electric field within the quantum wells in multi-quantum well GaAs-Al x Ga 1-x As structures and the absorption band for intersubband transitions has been obtained, using a self-consistent integral equation for the local field. The development of the approach suggested for the analysis of the spectral features observed from materials based on porous structures is of particular importance (Spanier & Herman, 2000;Timoshenko et al, 2003;. These investigations largely involve extending the models used in effective medium theory.…”
scite is a Brooklyn-based organization that helps researchers better discover and understand research articles through Smart Citations–citations that display the context of the citation and describe whether the article provides supporting or contrasting evidence. scite is used by students and researchers from around the world and is funded in part by the National Science Foundation and the National Institute on Drug Abuse of the National Institutes of Health.