1994
DOI: 10.1109/16.285035
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

An LPE grown InP based optothyristor for power switching applications

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
3
1
1

Citation Types

0
3
0
1

Year Published

2005
2005
2022
2022

Publication Types

Select...
6
2

Relationship

0
8

Authors

Journals

citations
Cited by 9 publications
(6 citation statements)
references
References 10 publications
0
3
0
1
Order By: Relevance
“…Unlike light triggered thyristors and optothyristors [14] in which inherent thyristor like latch-up problems and a semi-insulating thick layer make it turn off slowly and have a large voltage drop. [15,16] It shows that the devices are latch-free devices, turning off the trigger light ensures that turn-off of the device and fall time is much longer than the rise time as shown in Fig. 6.…”
Section: -2mentioning
confidence: 98%
“…Unlike light triggered thyristors and optothyristors [14] in which inherent thyristor like latch-up problems and a semi-insulating thick layer make it turn off slowly and have a large voltage drop. [15,16] It shows that the devices are latch-free devices, turning off the trigger light ensures that turn-off of the device and fall time is much longer than the rise time as shown in Fig. 6.…”
Section: -2mentioning
confidence: 98%
“…Commercially available opto-thyristors usually can block voltages in the range of 0.8 to 10 kV and conduct currents between 20 A to 5 kA [26][27][28]. The switching frequency of these devices is in the range from 1 kHz to 1 MHz [29].…”
Section: Opto-thyristorsmentioning
confidence: 99%
“…Тиристоры на основе арсенида галлия, выращенные методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений (ГФЭ МОС), привлекают в последнее время внимание исследователей с точки зрения создания низковольтных сильноточных ключей, применяемых, например, для решения проблемы генерации коротких импульсов тока большой амплитуды в цепях с низкоимпедансной нагрузкой [1]. Практически все известные на сегодняшний день исследования по созданию A III B V тиристоров (в том числе на GaAs-структурах) проводились с высоковольтными конструкциями, выращенными методом жидкофазной эпитаксии [2,3]. В основе этих конструкций были толстые (от десятков до сотен микрометров), слаболегированные (∼ 10 14 −10 15 см −3 ) базовые слои, обеспечивающие напряжение переключения ∼ 1 кВ.…”
Section: Introductionunclassified