A technique for extracting and analyzing the polarization aberration of hyper-numerical aperture image optics

Polarization aberration compensation method by adjusting illumination partial coherent factors in immersion lithography

“…In addition, because of low K 1 and ultrahigh NA, the simplified thin mask mode become inaccurate for lithography performance analysis [4][5][6] . The mechanism, such as large incident angle, film coatings and lens material intrinsic birefringence could induce the PA, making adverse effect on image performance [7][8] . Several representations of PA have been proposed, such as Jones pupil, physical pupil, Mueller pupil ,Pauli pupil and 3D PA [9][10][11][12][13][14] .…”

Study of birefringence influence on image quality of photolithography systems in view of partially-coherent light source

“…Основными особенностями расчета фотолитографических систем являются неприменимость стан-дартных скалярных методов из-за высоких числовых апертур [7], необходимость учета частичной коге-рентности источников [8], поляризационные свойства материалов [9][10][11], а также нелинейности в фоторе-зистах. Все это вынуждает разрабатывать новые алгоритмы расчета формирования изображения, осно-ванные на более точном применении дифракционной теории.…”