Polarization aberration compensation method by adjusting illumination partial coherent factors in immersion lithography

Abstract

As the numerical aperture (NA) increasing and process factor k 1 decreasing in 193nm immersion lithography, polarization aberration (PA) of projection optics leads to image quality degradation seriously. Therefore, this work proposes a new scheme for compensating polarization aberration. By simulating we found that adjusting the illumination source partial coherent factors σ out is an effective method for decreasing the PA induced pattern critical dimension (CD) error while keeping placement error (PE) within an acceptable range. Our simulation results reveal that the proposed method can effectively compensate large PA in actual optics.

Study of birefringence influence on image quality of photolithography systems in view of partially-coherent light source

“…Основными особенностями расчета фотолитографических систем являются неприменимость стан-дартных скалярных методов из-за высоких числовых апертур [7], необходимость учета частичной коге-рентности источников [8], поляризационные свойства материалов [9][10][11], а также нелинейности в фоторе-зистах. Все это вынуждает разрабатывать новые алгоритмы расчета формирования изображения, осно-ванные на более точном применении дифракционной теории.…”