The formation of ohmic Au/Mo/Ti contacts to epitaxial p-type diamond films is studied. The effect of annealing on the electrical and structural properties of contacts has been investigated. It was shown that during rapid thermal annealing, the outer layer of gold protects the contact system from oxidation up to a temperature of 850°C, unlike the simplified Au/Ti system, which is more common in modern works. In Au/Ti structures without a Mo layer after high-temperature annealing, effective diffusion of titanium into the gold layer occurs, which reduces its protective properties and accelerates the diffusion of oxygen to the boundary with the diamond. Oxidation of the Ti/C contact region blocks the formation of a conductive layer of titanium carbide with high adhesion at the border with diamond. The role of various factors in reducing the contact resistance is compared: annealing for the formation of titanium carbide, heavy doping of diamond with boron atoms, and crystalline perfection of epitaxial diamond substrates. For doped epitaxial films grown on single-sector quality substrates, non-annealed ohmic contacts with a record contact resistance of 4•10<-7> Ω•cm<2> were obtained.
Экспериментальные температурные зависимости сопротивлений, близких к порогу фазового перехода в состояние с металлической проводимостью тонких (1-3 нм) сильно легированных бором delta-слоев в химически осажденном из газовой фазы алмазе в широком диапазоне температур от ~100 до ~500 K, можно описать двумерным законом Мотта ("перескоки" дырок между локализованными состояниями с зависящей от температуры средней длиной "прыжка") в области низких температур и законом Аррениуса ("перескоки" дырок между ближайшими локализованными состояниями) в области высоких температур. Переход между ними происходит при 230-300 K. Потенциалы локализованных состояний дырок --- дальнодействующие, например кулоновские, а статические диэлектрические проницаемости delta-слоев в несколько раз больше, чем у нелегированного химически осажденного из газовой фазы алмаза. Ключевые слова: CVD-алмаз, закон Аррениуса, закон Мотта, легированные delta-слои, "прыжковая" проводимость, фазовый переход изолятор-металл.