Aim To describe a case series of thyrotoxicosis likely triggered by SARS-CoV-2 vaccination and to warn physicians about this potential correlation. To report clinical, laboratory and imaging findings and provide further information that goes in line with the underlying mechanisms. Methods Single-center case series based on all the information collected in the hospital medical records, as well as the temporal sequence between the onset of symptoms and COVID-19 vaccination. Results We report 8 cases with thyrotoxicosis after SARS-CoV-2 vaccination. 4 cases of Graves’ disease (GD), 2 cases of subacute painful thyroiditis (SAT), 1 case of concurrent GD and SAT and 1 case of atypical subacute thyroiditis. Five patients received BNT162b2 mRNA vaccine, 3 patients 1273 mRNA vaccine. The onset of symptoms following vaccination ranged from 10 to 14 days in six of eight patients and from 7 to 8 weeks in two patients. Conclusions Several hypotheses have been proposed to explain the potential correlation between SARS-CoV-2 vaccination and thyrotoxicosis, including immune system hyper-stimulation, molecular mimicry and Autoimmune/Autoinflammatory Syndrome Induced by Adjuvants (ASIA). We should pay greater attention to thyroid disorders in patients receiving vaccine against SARS-CoV-2.

ResumenObjetivo: Evaluar la evolución del recién nacido según los cuidados de puericultura citados en la Resolución 0412 del Ministerio de la Protección Social (Colombia) al momento del nacimiento y al tercer día de nacido. Materiales y métodos: Es un estudio de corte transversal retrospectivo, que se realizó con datos obtenidos de 1202 historias clínicas de atención al nacimiento y control al tercer día en el año 2012 de niños nacidos en el centro ASSBASALUD ESE (Manizales, Colombia). Se evaluaron variables de la madre, variables del parto, variables del neonato al nacimiento y al 3°día. Resultados: La edad promedio de la madre de 23 años, el 95,1% asistieron a los controles prenatales. Al momento del nacimiento se encontró que al 98.8% de los recién nacidos se les colocó brazalete de identificación, también al 98,4% de los RN se les aplicó las vacunas (BCG, anti-hepatitis B), en el 83,9% de los partos se realizó un pinzamiento tardío del cordón umbilical; al 99,6% profilaxis ocular, 99,7% profilaxis muñón umbilical. Al control del tercer día se observó que el 13,4% de los recién nacidos presentaron ictericia, el 3,8% presentaron anormalidades al examen físico siendo la conjuntivitis la más frecuente con un 0,7% y el 90,1% asistieron a este control. Conclusiones: En los hallazgos de esta investigación se concluye que en los cuidados que se le brinda a esta población, se cumplen los parámetros establecidos por la Resolución 0412 del Ministerio de la Protección Social de la República de Colombia. Palabras clave: Recién nacido, distocia, parto normal, lactancia materna. . Se dice que de una gestación normal, se deben derivar una madre y un bebé sanos 2 , mediante el control de los factores de riesgo para garantizar una adecuada adaptación al medio externo confirmada por la valoración completa e inmediata después del parto, durante la hospitalización y en el control a realizar al RN en las primeras 72 horas 3 . Partiendo del conocimiento de la norma, se pretende documentar por medio de este estudio, no sólo evaluar la ejecución de la misma sino sus beneficios, en medio de las múltiples variables que afectan su aplicación, que permitan acumular criterios que sean recomendables en la atención materno infantil al obtener buenos niveles de evidencia científica.Son fundamentales las acciones médicas y de puericultura desde el mismo momento de ocurrido la expulsión fetal con maniobras como el contacto piel a piel de manera precoz, estimulación dérmica, valoración del APGAR buscando una excelente transición de la vida intra a la extrauterina.Otras prácticas incluyen las profilaxis ocular, umbilical y de la enfermedad hemorrágica del RN, pinzamiento del cordón como lo recomiendan las circunstancias, [4][5][6] evitar la hipotermia, identificar al RN 7-10 y muchas más 10,11 y previo al alta, garantizar la asignación de una cita de control al tercer día, para valorar los cambios fisiológicos y detectar las eventuales alteraciones no reconocidas durante la evolución intrahospitalaria.En un estudio realizado en Soledad y Barran...

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Reducing process development time and speeding up time to market are perennial challenges in the microelectronics industry. The development of etch models that permit optimizations across the wafer would enable manufacturers to optimize process design flows and predict process defects before a single wafer is run. The challenges of across-wafer uniformity optimizations include the large variety of features across the wafer, etch variations that occur at multiple scales within the plasma chamber, feature metrology, and computationally expensive model development. Compounding these challenges are trade-offs between data quality and time/cost-effectiveness, the wide variety of measurement information provided by different tools, and the sparsity and inconsistency of human-collected data. We address these challenges with a feature and wafer level modeling approach. First, experiments are conducted for a variety of etch conditions (e.g., pressure, gas composition, flow rate, temperature, power, and bias). Second, a feature level model is calibrated at multiple sites across the wafer based on OCD and/or cross-sectional SEM measurements. Finally, the calibrated model is used to predict an optimal set of process conditions to preserve uniformity across the wafer and to meet recipe targets. We demonstrate the methodology using SandBox Studio™ AI for a FinFET application. Specifically, we show the rapid and automated calibration of feature level models using experimental measurements of the 3D feature etch at a variety of process conditions. Automated image segmentation of X-SEM data is also performed here for single case using Weave® to demonstrate how such data can be acquired quickly in a development environment. We then demonstrate the effectiveness of the reduced-order model to predict optimal recipe conditions to improve overall recipe performance. We show how, with this hybrid-metrology computational approach, a process window that yields 89.2% of the wafer can be captured.