Palavras-chave: 1. tomadas de decisão. 2. efeitos psicofísicos. 3. inconsistência intertemporal. 4. função peso.
AgradecimentosPrimeiramente a Deus, pelas bênçãos em minha vida.À minha família, em especial aos meus pais e à minha irmã Paty, pelo amor, carinho e incentivo incondicionais. Vocês são a base da minha vida.À minha segunda família, Aninha, Line, Pá e Lucy, por todas as nossas terapias em grupo e infinitas risadas que tornam nossa convivência maravilhosa. ResumoPor ser um semicondutor de elevado número atômico, elevada densidade de massa e largo gap de energia, o brometo de tálio (TlBr) é um material promissor para a detecção da radiação ionizante à temperatura ambiente. Entretanto, existem poucos trabalhos relacionados ao estudo deste material sob forma de filme fino policristalino para produção em grandes áreas (∼ 40 x 40 cm 2 ) como desejado para aplicações médicas. Neste trabalho, as técnicas de spray pyrolysis e evaporação térmica foram avaliadas como métodos alternativos para a deposição de filmes de TlBr policristalinos. Ambas as técnicas apresentam relativo baixo custo e podem ser expandidas para grandes áreas. O objetivo deste trabalho é o estudo da influência das principais condições de crescimento dos filmes de TlBr nas suas propriedades estruturais, ópticas e elétricas finais.Para os filmes produzidos por spray pyrolysis água mili-Q foi utilizada como solvente. A solução (0,10 g de TlBr dissolvidos em 100 g de água) foi agitada à temperatura de 70°C. Cada deposição foi realizada mantendo os substratos (1cm 2 ) à temperatura de 100ºC, com um fluxo de nitrogênio (N 2 ) de 8 l/min e um fluxo de solução de aproximadamente 1/90 (ml/s). A distância bico de spray-substrato utilizada foi de 19 cm.Os filmes de TlBr evaporados foram crescidos pela evaporação térmica resistiva do material a partir de um cadinho de tungstênio. A temperatura do substrato foi avaliada desde a temperatura ambiente até 200°C. A separação substrato-superfície de evaporação, h, e o número de deposições por filme, n, também foram variados no intervalo de 3 a 9 cm e 1 a 4, respectivamente.A estrutura dos filmes foi investigada por Difração de Raios X (DRX), a morfologia por Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV) e a composição através da Espectroscopia de Dispersão de Energia (EDS). Experimentos ópticos de transmitância em função do comprimento de onda foram realizados para estimar o gap óptico dos filmes. As resistividades foram medidas a partir de experimentos de corrente elétrica em função da diferença de potencial aplicada. A corrente de escuro foi comparada à corrente sob iluminação com uma lâmpada fluorescente (20 watts). Por fim, algumas amostras selecionadas foram expostas aos raios X na faixa de diagnóstico mamográfico.As melhores propriedades foram obtidas para os filmes crescidos por evaporação térmica resistiva. Essa técnica permitiu a obtenção de filmes com espessura de até aproximadamente 28 µm a partir de uma única deposição de 12 minutos. Entretanto, como a pressão de vapor do bromo é significativamente menor que a do tálio, observou-se uma perda de 10% de bromo na composição dos filmes evaporados. O menor número de tr...
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