The determination of trace silicon by inductively coupled plasma -atomic emission spectrometry in samples containing HF is inhibited by the high blank caused by attack of the quartz torch. Use of a proprietary commercial amine to neutralize the HF and increase the pH to between 7 and 7.5 allows the simultaneous determination of silicon and other impurities in zirconium or zircaloy samples. The determination of silicon in steels requires the addition of an auxiliary complexing agent to the amine solution to prevent precipitation of iron(III). The analytical results obtained for several Standard Reference Materials (SRMs) with and without the amine reagent agree well with one another, and also with the certified values.Résumé : La détermination de traces de silicium, par spectrométrie d'émission à plasma atomique couplé de façon inductive, dans des échantillons contenant du HF est inhibée par la valeur élevée du blanc causée par l'attaque de la torche de quartz. L'utilisation d'une amine commerciale de formule déposée permet de neutraliser le HF, d'augmenter le pH à des valeurs variant de 7,0 à 7,5 et de déterminer de façon simultanée le silicium et les autres impuretés contenues dans le zirconium ou dans des échantillons de zircaloy. La détermination du silicium dans les aciers nécessite l'addition d'un agent complexant auxiliaire à la solution d'amine afin de prévenir la précipitation du fer(III). Les résultats analytiques obtenus pour plusieurs matériaux de référence standard (MRS), avec et sans amine, sont en bon accord les uns avec les autres ainsi qu'avec les valeurs certifiées.
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