Amorphous hydrogenated silicon carbide (a-Sic : H) films are prepared by magnetron sputtering of crystalline silicon in an argon-hydrogen-methane atmosphere. The specific absorption modes (wagging, rocking, deformation, stretching) of the Sic-, (CH,),C/Si-(n = 1, 2, 3; m = 2, 3), and SiH,-(m = 1,2) groups are assigned and analyzed. The composition of the films is determined by nuclear reaction techniques. Structural, electrical, and optical properties of the films show characteristic changes near an alloy composition of a-Sil-&,: H, x = 0.5 which indicate the transition t o a structure with threefold coordinated carbon. For x 2 0.75 in the infrared absorption spectra an absorption band is identified which arises from graphitic constituents. Amorphe hydrogenierte Siliziumkarbidfilme (a-Sic: H) werden durch Magnetronsputtern von kristallinem Silizium in einer Argon-Wasserstoff-Methan-Atmosphkre hergestellt. Die Zusammensetzung der Filme wird durch Kernreaktionstechniken bestimmt. Die spezifischen Absorptionsmoden (wagging, rocking, deformation, stretching) der Sic-, (CH,),C/Si-(n = 1 , 2 , 3; m = 2, 3) und SiH,-(m = 1, 2)-Gruppen werden analysiert und zugeordnet. Strukturelle, elektrische und optische Eigenschaften der Filme zeigen ab einer Filmzusammensetzung a-Sil -zC,: H, x = 0,5, charakteristische Anderungen, die einen ubergang zu einer Struktur mit dreifach koordiniertem Kohlenstoff anzeigen. Fur x 2 0,75 wird im Infrarotabsorptionsspektrum eine Absorptionsbande identifiziert, die von graphitischen Anteilen herruhrt.