Тонкопленочные Al-мишени для лазерно-плазменного источника экстремального ультрафиолетового излучения

Abstract

Using a multilayer mirror spectrometer of the extreme ultraviolet (EUV) range, the laser plasma emission spectra of bulk aluminum in the wavelength range of 8.0-18.0 nm were studied. Testing of thin film laser targets made of aluminum and comparative measurements of the intensity of EUV radiation of a film with a thickness of 100 nm and a bulk material target were carried out.

Эмиссионные Характеристики Лазерно-Плазменного Источника Экстремального Ультрафиолетового Излучения С Тонкопленочными Мишенями

“…Публикации по исследованию МР и ЭУФ излучений при лазерном воздействии на тонкопленочные мишени (толщиной меньше 1 µm) отсутствуют, в то время как существует интерес в понимании процесса лазерной генерации рентгеновского излучения при уменьшении толщины лазерной мишени. В нашей предыдущей работе [26] впервые было показано интенсивное излучение от экстремально тонкой Al-мишени, лишь на 30% уступающее по интенсивности излучению от массивной мишени, при более чем на порядок меньшей общей массе испаренного материала.…”