2019
DOI: 10.21883/ftp.2019.06.47725.34
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Структура и термоэлектрические свойства CoSi, полученного из пересыщенного раствора-расплава в Sn

Abstract: The structure, composition, and thermoelectric properties of cobalt monosilicide obtained by crystallization from a supersaturated solution–melt in tin are studied. A technique for the synthesis and directional solidification of microcrystalline and bulk textured materials in a single technological cycle is developed.

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2022
2022
2022
2022

Publication Types

Select...
1

Relationship

0
1

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(1 citation statement)
references
References 4 publications
(4 reference statements)
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…В частности, нанофазы и нанослои силицидов и германидов металлов имеют перспективы в создании СВЧ-транзисторов и интегральных схем, а гетероструктуры Ge x Si 1−x /Siв создании светодиодов, фотодетекторов, лазерных источников, оптических и электронных приборов [5][6][7][8][9][10][11][12]. В связи с этим в последние годы хорошо изучены состав, электронная и кристаллическая структуры, эмиссионные и оптические свойства наноразмерных гетероструктур и слоев, созданных методами молекулярно-лучевой эпитаксии, твердофазной и газофазной эпитаксий на поверхности Si и Ge [13][14][15][16]. В последние годы метод ионной имплантации широко используется для контролируемого изменения физических свойств полупроводников.…”
Section: Introductionunclassified
“…В частности, нанофазы и нанослои силицидов и германидов металлов имеют перспективы в создании СВЧ-транзисторов и интегральных схем, а гетероструктуры Ge x Si 1−x /Siв создании светодиодов, фотодетекторов, лазерных источников, оптических и электронных приборов [5][6][7][8][9][10][11][12]. В связи с этим в последние годы хорошо изучены состав, электронная и кристаллическая структуры, эмиссионные и оптические свойства наноразмерных гетероструктур и слоев, созданных методами молекулярно-лучевой эпитаксии, твердофазной и газофазной эпитаксий на поверхности Si и Ge [13][14][15][16]. В последние годы метод ионной имплантации широко используется для контролируемого изменения физических свойств полупроводников.…”
Section: Introductionunclassified