2017
DOI: 10.21883/ftp.2017.11.45115.32
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Особенности выращивания лазерных структур InGaAs/ GaAs/AlGaAs методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках Ge/Si

Abstract: Исследован рост лазерных структур InGaAs/GaAs/AlAs методом МОС-гидридной эпитаксии при низком давлении на подложках Si(001) с эпитаксиальным метаморфным буферным слоем Ge разной толщины. Представлены результаты влияния на кристаллическое и оптическое качество формируемых A III B V структур температуры роста и встраивания на границе с Ge/Si(001) подложкой дополнительных слоев AlAs. Проде-монстрировано, что встраивание AlAs/GaAs/AlAs решетки на начальных этапах роста A III B V гетероструктур на Ge буферных слоях… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2

Citation Types

0
0
0
2

Year Published

2018
2018
2018
2018

Publication Types

Select...
1

Relationship

1
0

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(2 citation statements)
references
References 5 publications
0
0
0
2
Order By: Relevance
“…Пороговая плотность мощности при температуре жидко-го азота при накачке излучением с длиной волны 0. 8 В настоящее время для реализации " оптоэлектроники на крем-нии" [1] наметился прогресс в создании гибридных лазерных струк-тур на точно ориентированных подложках Si(001). Так, были про-демонстрированы лазеры диапазона 1−1.1 µm на основе гетеро-структур GaAs/AlGaAs с квантовыми ямами (КЯ) InGaAs [2][3][4][5].…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified
See 1 more Smart Citation
“…Пороговая плотность мощности при температуре жидко-го азота при накачке излучением с длиной волны 0. 8 В настоящее время для реализации " оптоэлектроники на крем-нии" [1] наметился прогресс в создании гибридных лазерных струк-тур на точно ориентированных подложках Si(001). Так, были про-демонстрированы лазеры диапазона 1−1.1 µm на основе гетеро-структур GaAs/AlGaAs с квантовыми ямами (КЯ) InGaAs [2][3][4][5].…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified
“…На первом эта-пе в установке МПЭ Riber SIVA-21 формировалась " виртуальная подложка" Ge/Si(001): выращивался слой релаксированного герма-ния толщиной ∼ 1 µm. Далее на полученной " виртуальной подлож-ке" Ge/Si(001) в установке МОГФЭ AIX 200RF при пониженном давлении выращивалась буферная структура GaAs/AlAs (подробности приведены в [8]). Наконец, на третьем этапе в установке МОГФЭ при атмосферном давлении осаждались градиентный метаморфный буфер In 0.49 Ga 0.51 P→InGaAsP и непосредственно лазерная структура.…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified