Abstract:Исследован рост лазерных структур InGaAs/GaAs/AlAs методом МОС-гидридной эпитаксии при низком давлении на подложках Si(001) с эпитаксиальным метаморфным буферным слоем Ge разной толщины. Представлены результаты влияния на кристаллическое и оптическое качество формируемых A III B V структур температуры роста и встраивания на границе с Ge/Si(001) подложкой дополнительных слоев AlAs. Проде-монстрировано, что встраивание AlAs/GaAs/AlAs решетки на начальных этапах роста A III B V гетероструктур на Ge буферных слоях… Show more
“…Пороговая плотность мощности при температуре жидко-го азота при накачке излучением с длиной волны 0. 8 В настоящее время для реализации " оптоэлектроники на крем-нии" [1] наметился прогресс в создании гибридных лазерных струк-тур на точно ориентированных подложках Si(001). Так, были про-демонстрированы лазеры диапазона 1−1.1 µm на основе гетеро-структур GaAs/AlGaAs с квантовыми ямами (КЯ) InGaAs [2][3][4][5].…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified
“…На первом эта-пе в установке МПЭ Riber SIVA-21 формировалась " виртуальная подложка" Ge/Si(001): выращивался слой релаксированного герма-ния толщиной ∼ 1 µm. Далее на полученной " виртуальной подлож-ке" Ge/Si(001) в установке МОГФЭ AIX 200RF при пониженном давлении выращивалась буферная структура GaAs/AlAs (подробности приведены в [8]). Наконец, на третьем этапе в установке МОГФЭ при атмосферном давлении осаждались градиентный метаморфный буфер In 0.49 Ga 0.51 P→InGaAsP и непосредственно лазерная структура.…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified
“…Пороговая плотность мощности при температуре жидко-го азота при накачке излучением с длиной волны 0. 8 В настоящее время для реализации " оптоэлектроники на крем-нии" [1] наметился прогресс в создании гибридных лазерных струк-тур на точно ориентированных подложках Si(001). Так, были про-демонстрированы лазеры диапазона 1−1.1 µm на основе гетеро-структур GaAs/AlGaAs с квантовыми ямами (КЯ) InGaAs [2][3][4][5].…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified
“…На первом эта-пе в установке МПЭ Riber SIVA-21 формировалась " виртуальная подложка" Ge/Si(001): выращивался слой релаксированного герма-ния толщиной ∼ 1 µm. Далее на полученной " виртуальной подлож-ке" Ge/Si(001) в установке МОГФЭ AIX 200RF при пониженном давлении выращивалась буферная структура GaAs/AlAs (подробности приведены в [8]). Наконец, на третьем этапе в установке МОГФЭ при атмосферном давлении осаждались градиентный метаморфный буфер In 0.49 Ga 0.51 P→InGaAsP и непосредственно лазерная структура.…”
Section: поступило в редакцию 7 марта 2018 гunclassified
scite is a Brooklyn-based organization that helps researchers better discover and understand research articles through Smart Citations–citations that display the context of the citation and describe whether the article provides supporting or contrasting evidence. scite is used by students and researchers from around the world and is funded in part by the National Science Foundation and the National Institute on Drug Abuse of the National Institutes of Health.