2020
DOI: 10.21883/pjtf.2020.17.49883.18377
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Метод Расчета Рабочих Характеристик Кремниевых Гетеропереходных Солнечных Элементов С Произвольными Параметрами Кристаллической Подложки

Abstract: The features of current processes in silicon heterojunction thin-film solar cells are investigated. The proposed model takes into account the ambipolar nature of the motion of charge carriers and allows one to calculate the operating characteristics for an arbitrary ratio between the diffusion length and the thickness of the crystalline substrate. A numerical method for estimating the rate of recombination losses on the surfaces of silicon wafers is described, based on a comparative analysis of the experimenta… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
6

Year Published

2021
2021
2022
2022

Publication Types

Select...
3

Relationship

1
2

Authors

Journals

citations
Cited by 3 publications
(6 citation statements)
references
References 2 publications
0
0
0
6
Order By: Relevance
“…Поэтому увеличение времени жизни неравновесных носителей заряда (ННЗ) является главным критерием оптимизации технологии солнечных элементов (СЭ). С ростом времени жизни увеличивается ток короткого замыкания (I s c ) и напряжение холостого хода (V oc ) вследствие уменьшения обратного тока насыщения [3,4].…”
Section: Introductionunclassified
“…Поэтому увеличение времени жизни неравновесных носителей заряда (ННЗ) является главным критерием оптимизации технологии солнечных элементов (СЭ). С ростом времени жизни увеличивается ток короткого замыкания (I s c ) и напряжение холостого хода (V oc ) вследствие уменьшения обратного тока насыщения [3,4].…”
Section: Introductionunclassified
“…В высококачественных образцах HIT-элемен-тов рекордные напряжения холостого хода составляют более 0.74 V [5]. Такие высокие показатели были достигнуты в том числе за счет существенного снижения суммарной скорости поверхностной рекомбинации (до десятых долей cm/s), так что результирующие потери оказались близки к уровням рекомбинационных процессов в объеме подложки [4,6]. Успехи современных технологий в обработке поверхностей кристаллического кремния сделали актуальной задачу более детального изучения возможности улучшения рабочих характеристик HIT-элементов за счет оптимального выбора τ 0 и N d .…”
unclassified
“…Метод оптимизации структуры HIT-элементов, предложенный в [7], основывается на анализе рекомбинационных процессов [8] и не учитывает диффузионный перенос зарядов внутри подложки. У модели, описанной в [6], такой недостаток отсутствует, так как она рассматривает совместное влияние рекомбинации и амбиполярной диффузии носителей заряда на распределения их концентраций в подложке с произвольными параметрами. При этом плотность тока короткого замыкания J s c используется в качестве произвольно задаваемого параметра.…”
unclassified
See 2 more Smart Citations