2018
DOI: 10.21883/pjtf.2018.03.45579.16991
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Когерентный рост нитевидных нанокристаллов InP/InAsP/InP на поверхности Si(111) при молекулярно-пучковой эпитаксии

Abstract: Results obtained in a study of the growth of InP/InAsP/InP nanowires on the Si (111) surface are presented. Using a special procedure of substrate preparation immediately before the growth made it possible to obtain a nanowire coherency with the substrate of nearly 100%. A high-intensity emission from nanostructures of this kind was observed at a wavelength of ~1.3 μm at room temperature.

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2021
2021
2021
2021

Publication Types

Select...
1

Relationship

1
0

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(1 citation statement)
references
References 14 publications
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…[1]. Использование такого технологического метода синтеза ННК, как метод молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ) [2,3], позволило воспроизводимо получать наноструктуры с комбинированной размерностью, например типа " квантовая точка (КТ) в ННК" [4][5][6][7]. В отличие от КТ, сформированных по механизму Странски−Крастанова [8], диаметр, высота и плотность таких КТ определяются диаметром ННК, временем роста и плотностью ННК соответственно.…”
unclassified
“…[1]. Использование такого технологического метода синтеза ННК, как метод молекулярно-пучковой эпитаксии (МПЭ) [2,3], позволило воспроизводимо получать наноструктуры с комбинированной размерностью, например типа " квантовая точка (КТ) в ННК" [4][5][6][7]. В отличие от КТ, сформированных по механизму Странски−Крастанова [8], диаметр, высота и плотность таких КТ определяются диаметром ННК, временем роста и плотностью ННК соответственно.…”
unclassified