2017
DOI: 10.21883/jtf.2017.11.45129.2257
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Исследование Процесса Выключения Интегрального Тиристора Импульсом Базового Тока

Abstract: Для повышения предельной плотности силового тока при выключении интегрального n + p ′ Nn ′ p + -ти-ристора импульсом тока в цепи управления необходимо прервать инжекцию электронов из n + -эмиттера раньше начала восстановления коллекторного p ′ N-перехода. Это осуществляется с помощью быстро нарастающего импульса запирающего базового тока с амплитудой, равной амплитуде выключаемого тока. После обрыва инжекции эмиттера обратный ток через прибор является током дырок, выводимых из приколлекторной области через баз… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0
1

Year Published

2019
2019
2019
2019

Publication Types

Select...
1

Relationship

0
1

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(1 citation statement)
references
References 3 publications
(5 reference statements)
0
0
0
1
Order By: Relevance
“…В общем случае ДРВ представляют собой полупроводниковые p + −p−n−n +структуры, которые, начиная с пионерской работы [4], изготавливались по обычной диффузионной технологии мощных кремниевых выпрямительных диодов [4][5][6][7][8][9][10][11]. В статье [8] было показано, что наличие p-слоя, сформированного путем диффузии Al на большую (∼ 100 мкм) глубину существенно уменьшает время обрыва тока, а авторы недавней статьи [12] даже назвали такой p-слой " принципиальной особенностью конструкции этих диодов". Однако в большинстве опубликованных статей, посвященных теоретическому анализу работы ДРВ, использовалась модель приборов с однородно легированными высокоомными p-и(или) n-слоями [2][3][4][13][14][15][16][17][18][19], которые можно изготовить с помощью эпитаксиальной технологии [20] (далее для таких приборов мы используем аббревиатуру эДРВ).…”
Section: Introductionunclassified
“…В общем случае ДРВ представляют собой полупроводниковые p + −p−n−n +структуры, которые, начиная с пионерской работы [4], изготавливались по обычной диффузионной технологии мощных кремниевых выпрямительных диодов [4][5][6][7][8][9][10][11]. В статье [8] было показано, что наличие p-слоя, сформированного путем диффузии Al на большую (∼ 100 мкм) глубину существенно уменьшает время обрыва тока, а авторы недавней статьи [12] даже назвали такой p-слой " принципиальной особенностью конструкции этих диодов". Однако в большинстве опубликованных статей, посвященных теоретическому анализу работы ДРВ, использовалась модель приборов с однородно легированными высокоомными p-и(или) n-слоями [2][3][4][13][14][15][16][17][18][19], которые можно изготовить с помощью эпитаксиальной технологии [20] (далее для таких приборов мы используем аббревиатуру эДРВ).…”
Section: Introductionunclassified