Изменения Зарядового Состава Ионов В Потоке Плазмы Под Влиянием Многократной Обработки Наноструктурированной Поверхности Вольфрамового Катода Микросекундной Вакуумной Дугой

Abstract

В работе исследовалось изменение зарядового состава ионов вольфрама по мере разрушения наноструктурированного слоя на поверхности вольфрамового образца многократными вакуумными дуговыми разрядами микросекундной длительности. Измерения состава плазмы проводились при помощи спектрометра Томсона с автоматической регистрацией сигнала и цифровой обработкой данных. Результаты анализа данных показали монотонное увеличение среднего заряда ионов вольфрама в ходе эксперимента с 1–1.5 до 2–2.5. Высокий разброс параметров состава плазмы от разряда к разряду, а также тот факт, что уровня среднего заряда, характерного для ординарного вольфрамового катода (3.07) достичь не удалось, объясняются периодическим вовлечением в разряд неэродированных участков наноструктурированной поверхности.