Зависимость Потока Энергии На Подложку От Длительности Импульсов Разрядного Тока И Потенциала Смещения В Процессе Магнетронного Распыления Меди Импульсами Высокой Мощности

Abstract

Данная работа посвящена измерению энергетического воздействия на подложку в процессе сильноточного импульсного магнетронного распыления (HiPIMS) меди. Уменьшение длительности импульсов тока от 100 до 8 мкс при амплитуде 150 А и средней мощности разряда 1 кВт приводит к увеличению на 50% потока энергии на подложку, находящуюся под плавающим потенциалом. При этом удельная энергия, сообщаемая единице объема осаждаемого покрытия, в 2–3 раза выше, чем в режиме постоянного тока. Увеличение потенциала смещения подложки приводит к практически линейному росту потока энергии на подложку. В работе рассматриваются причины увеличения потока энергии на подложку и удельной энергии, сообщаемой покрытию. Продемонстрирована возможность управления энергией, поступающей на подложку, путем регулирования длительности, частоты и амплитуды импульсов разрядного тока в процессе HiPIMS.