2008
DOI: 10.3367/ufnr.0178.200807c.0727
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Атомная Структура Аморфных Нестехиометрических Оксидов И Нитридов Кремния

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
1

Citation Types

0
1
0
8

Year Published

2009
2009
2019
2019

Publication Types

Select...
10

Relationship

1
9

Authors

Journals

citations
Cited by 31 publications
(9 citation statements)
references
References 24 publications
(1 reference statement)
0
1
0
8
Order By: Relevance
“…Несмотря на то, что диэлектрическое защитное покрытие является аморфным, ИК-колебательные спектры несут информацию о ближнем порядке атомной структуры, который определяет подобие решеточного поглощения. При нормальном падении регистрируются только поперечные оптические фононы, а при наклонном падении регистрируются поперечные и продольные фононы [4,5]. Результаты измерений показали, что при выборе отражающих покрытий зеркал, предназначенных для работы под углами более 15 • (поворотные и сканирующие зеркала для ИК-диапазона λ = 3-14 мкм), необходимо тщательно учитывать химический состав, технологию изготовления и толщину защитного покрытия, чтобы исключить провалы значения коэффициента отражения в некоторых диапазонах длин волн, значительно снижающие качество оптического тракта приборов ИК-диапазона.…”
Section: метрологические характеристики модернизированного комплекса unclassified
“…Несмотря на то, что диэлектрическое защитное покрытие является аморфным, ИК-колебательные спектры несут информацию о ближнем порядке атомной структуры, который определяет подобие решеточного поглощения. При нормальном падении регистрируются только поперечные оптические фононы, а при наклонном падении регистрируются поперечные и продольные фононы [4,5]. Результаты измерений показали, что при выборе отражающих покрытий зеркал, предназначенных для работы под углами более 15 • (поворотные и сканирующие зеркала для ИК-диапазона λ = 3-14 мкм), необходимо тщательно учитывать химический состав, технологию изготовления и толщину защитного покрытия, чтобы исключить провалы значения коэффициента отражения в некоторых диапазонах длин волн, значительно снижающие качество оптического тракта приборов ИК-диапазона.…”
Section: метрологические характеристики модернизированного комплекса unclassified
“…SiO x имеет сложную структуру и его электрофизические свойства радикальным образом зависят от состава (величины x), который определяется условиями его синтеза и дальнейшей обработки [8,9]. Несмотря на мно-гочисленные исследования SiO x [10,11], обусловленные, главным образом, его использованием в оптоэлектронных устройствах и солнечных элементах, строение и электронная структура SiO x , синтезированного методом ПХО, систематически не изучена.…”
Section: Introductionunclassified
“…Химический состав оксинитрида кремния (SiO x N y ) может быть плавно изменен от SiO 2 до Si 3 N 4 . Как следствие, соответственно могут изменяться его физические характеристики и свойства [2]. Оксинитрид кремния имеет меньшую плотность состояний на гра-нице с Si.…”
Section: Introductionunclassified