2004
DOI: 10.1007/s10800-004-3303-7
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Water diffusion coefficients during copper electropolishing

Abstract: Cu electropolishing was studied using a rotating disc electrode in a variety of phosphoric acid-based electrolytes, including several with ethanol and other species added as diluents. Diluents allow a wider range of water concentrations and electrolyte viscosities to be accessed and also reduce the removal rate during Cu electropolishing, simplifying possible application to damascene processing. Transient and steady state currents in the mass transfer limited regime are shown to depend on both the number of wa… Show more

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“…The linear fit has an R 2 value of 0.94. Using the slope of the linear regression, the effective diffusion coefficient (assuming s A = 6) is 5.3 · 10 -8 cm 2 s -1 which is similar to previously reported values [6,8,9]. However, over the range of data collected, a curvature results when a regression analysis is performed suggesting additional factors exist which are not captured by the Levich model.…”
Section: Levich Analysissupporting
confidence: 85%
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“…The linear fit has an R 2 value of 0.94. Using the slope of the linear regression, the effective diffusion coefficient (assuming s A = 6) is 5.3 · 10 -8 cm 2 s -1 which is similar to previously reported values [6,8,9]. However, over the range of data collected, a curvature results when a regression analysis is performed suggesting additional factors exist which are not captured by the Levich model.…”
Section: Levich Analysissupporting
confidence: 85%
“…As proposed elsewhere [6,8,9], water is assumed to be the limiting acceptor species in the removal mechanism. With this assumption the water concentration should approach zero near the surface.…”
Section: Levich Analysismentioning
confidence: 99%
“…O comportamento eletroquímico do cobre em soluções aquosas tem sido investigado, sendo dispensado interesse especial à elucidação do mecanismo de formação de depósitos superficiais de óxidos de cobre para estudos da proteção anódica, que tem como objetivo evitar fenômenos de corrosão [84][85][86]112]. O estudo da formação do filme sobre a superfície do eletrodo está usualmente relacionado com a estrutura morfológica do filme protetor, da cinética de formação e da sua dissolução [105].…”
Section: Comportamento Voltamétrico Do Eletrodo De Cobre Em Solução Tunclassified
“…O estudo do comportamento eletroquímico do cobre em soluções contendo íons fosfato foi direcionado fundamentalmente ao processo de eletropolimento em soluções concentradas de ácido fosfórico [112,[114][115][116][117]. Apesar da utilização do ácido fosfórico em vários processos em meio aquoso, ainda há controvérsias quanto à identidade das espécies formadas e mecanismos de reação [94,112,[115][116] Estes resultados podem ser explicados em função da formação de espécies solúveis de cobre e da passivação causada pelo crescimento do filme anódico [37,94,105,[136][137][138].…”
Section: Comportamento Voltamétrico Do Eletrodo De Cobre Em Solução Tunclassified
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